摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-9页 |
第一章 绪论 | 第13-29页 |
1.1 砷及其化合物 | 第13-14页 |
1.1.1 砷的氢化物 | 第13页 |
1.1.2 砷的氧化物 | 第13-14页 |
1.1.3 砷的硫化物 | 第14页 |
1.2 砷的危害 | 第14-15页 |
1.3 砷的来源 | 第15-16页 |
1.3.1 自然来源 | 第15-16页 |
1.3.2 人为来源 | 第16页 |
1.4 砷处理技术现状 | 第16-25页 |
1.4.1 含砷废水的处理技术 | 第16-24页 |
1.4.1.1 化学沉淀法 | 第16-22页 |
1.4.1.2 物化法 | 第22-23页 |
1.4.1.3 生物法 | 第23页 |
1.4.1.4 其他方法 | 第23-24页 |
1.4.2 含砷废渣的处理技术 | 第24-25页 |
1.5 固相法 | 第25-26页 |
1.6 研究内容和意义 | 第26-29页 |
第二章 实验设计 | 第29-37页 |
2.1 实验试剂与仪器 | 第29-30页 |
2.1.1 实验试剂 | 第29页 |
2.1.2 实验仪器 | 第29-30页 |
2.2 无砷钠明矾石与砷钠明矾石固溶体的制备 | 第30-33页 |
2.2.1 实验原理 | 第30页 |
2.2.2 无砷钠明矾石的制备 | 第30-31页 |
2.2.3 砷钠明矾石固溶体的制备 | 第31-33页 |
2.3 产物物相分析与结构表征 | 第33-34页 |
2.3.1 X-射线衍射分析(XRD) | 第33页 |
2.3.2 扫描电子显微镜-能谱分析(SEM-EDS) | 第33页 |
2.3.3 傅里叶变换红外光谱分析(FT-IR) | 第33-34页 |
2.3.4 热重-差热分析(TG-DSC) | 第34页 |
2.4 毒性浸出实验 | 第34-37页 |
2.4.1 实验方法 | 第34-35页 |
2.4.2 测试分析 | 第35-37页 |
第三章 钠明矾石的合成与表征 | 第37-45页 |
3.1 反应温度T的影响 | 第37-39页 |
3.2 反应时间t的影响 | 第39-40页 |
3.3 分析表征 | 第40-44页 |
3.3.1 X射线衍射(XRD)分析 | 第40-41页 |
3.3.2 扫描电子显微镜-能谱(SEM-EDS)分析 | 第41-42页 |
3.3.3 傅立叶红外光谱(FT-IR)分析 | 第42-43页 |
3.3.4 热重-差热(TG-DSC)分析 | 第43-44页 |
3.4 本章小结 | 第44-45页 |
第四章 固相法合成砷钠明矾石固溶体 | 第45-73页 |
4.1 反应温度T的影响 | 第45-52页 |
4.1.1 X射线衍射(XRD)分析 | 第45-46页 |
4.1.2 扫描电子显微镜-能谱(SEM-EDS)分析 | 第46-49页 |
4.1.3 反应温度T对x的影响 | 第49-50页 |
4.1.4 x对晶胞参数的影响 | 第50-51页 |
4.1.5 反应温度T对固砷率Y的影响 | 第51页 |
4.1.6 反应温度T对pH的影响 | 第51-52页 |
4.2 反应时间t的影响 | 第52-58页 |
4.2.1 X射线衍射(XRD)分析 | 第52-53页 |
4.2.2 扫描电子显微镜-能谱(SEM-EDS)分析 | 第53-56页 |
4.2.3 反应时间t对x的影响 | 第56页 |
4.2.4 x对晶胞参数的影响 | 第56-57页 |
4.2.5 反应时间t对固砷率Y的影响 | 第57-58页 |
4.2.6 反应时间t对pH的影响 | 第58页 |
4.3 砷掺量n(As/Al)的影响 | 第58-66页 |
4.3.1 X射线衍射(XRD)分析 | 第59-60页 |
4.3.2 扫描电子显微镜-能谱(SEM-EDS)分析 | 第60-63页 |
4.3.3 n(As/Al)对x的影响 | 第63页 |
4.3.4 x对晶胞参数的影响 | 第63-64页 |
4.3.5 n(As/Al)对固砷率Y的影响 | 第64-65页 |
4.3.6 n(As/Al)对pH的影响 | 第65页 |
4.3.7 傅立叶红外光谱(FT-IR)分析 | 第65-66页 |
4.4 RSM优化砷钠明矾石固砷率工艺 | 第66-70页 |
4.4.1 优化实验设计 | 第66-67页 |
4.4.2 模型的建立与分析 | 第67-69页 |
4.4.3 响应曲面分析及优化 | 第69-70页 |
4.5 本章小结 | 第70-73页 |
第五章 毒性浸出 | 第73-81页 |
5.1 浸出时间t对砷浸出浓度c(As)的影响 | 第73-75页 |
5.2 pH值及固相反应时间t对砷浸出浓度c(As)的影响 | 第75-77页 |
5.3 砷浸出率分析 | 第77-78页 |
5.4 固相分析 | 第78-80页 |
5.4.1 X射线衍射(XRD)分析 | 第78-79页 |
5.4.2 扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第79-80页 |
5.5 本章小结 | 第80-81页 |
第六章 结论 | 第81-83页 |
6.1 结论 | 第81-82页 |
6.2 创新点 | 第82页 |
6.3 展望 | 第82-83页 |
致谢 | 第83-85页 |
参考文献 | 第85-93页 |
附录 | 第93页 |