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先进二氧化硅微米/纳米图形的制备及优化

摘要第3-4页
Abstract第4-5页
第一章 绪论第8-14页
    1.1 制备二氧化硅纳米结构和微米结构的主要方法第8-10页
    1.2 二氧化硅纳米结构在太阳能电池中的应用第10-12页
    1.3 二氧化硅微米结构在立方碳化硅生长中的应用第12-13页
    1.4 论文提纲第13-14页
第二章 二氧化硅微米结构的制备第14-24页
    2.1 光子光刻技术第15-20页
        2.1.1 硅片的选择第16-17页
        2.1.2 脱水第17页
        2.1.3 旋涂第17页
        2.1.4 紫外线曝光第17-19页
        2.1.5 显影第19页
        2.1.6 观察第19-20页
    2.2 反应离子刻蚀(RIE)第20-22页
        2.2.1 二氧化硅的刻蚀第20-22页
        2.2.2 观察第22页
    2.3 结论第22-24页
第三章 利用纳米压印技术制备二氧化硅纳米结构第24-54页
    3.1 利用电子束刻蚀技术制备硅模板第24-38页
        3.1.1 旋转涂胶第25-26页
        3.1.2 电子束刻蚀技术和深反应离子硅刻蚀第26-38页
            3.1.2.1 多次投射曝光与单次投射曝光第30-35页
                3.1.2.1.1 多次投射曝光第30-32页
                3.1.2.1.2 单次投射曝光第32-34页
                3.1.2.1.3 多次投射曝光与单次投射曝光结果对比分析第34-35页
            3.1.2.2 不同电流的单次投射曝光第35-37页
            3.1.2.3 电子束刻蚀技术的结果分析第37-38页
        3.1.3 分子气相沉积第38页
    3.2 使用纳米压印技术制备二氧化硅纳米结构第38-49页
        3.2.1 制备工艺介绍第38-42页
        3.2.2 使用CNI进行纳米压印第42-45页
        3.2.3 使用EVG压印机进行纳米压印第45-47页
        3.2.4 CNI与EVG压印结果对比第47-49页
    3.3 最终设计第49-51页
    3.4 结论第51-54页
第四章 使用电子束刻蚀技术制备二氧化硅纳米结构第54-60页
    4.1 使用负性光刻胶的制备工艺第54-56页
    4.2 使用正性光刻胶的制备工艺第56-58页
    4.3 结论第58-60页
第五章 结论与展望第60-64页
    5.1 结论第60-61页
    5.2 展望第61-64页
参考文献第64-68页
首字母缩略词表第68-70页
化学式表第70-72页
致谢第72页

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