AZO透明导电薄膜的制备及性能研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-11页 |
| 第二章 文献综述 | 第11-18页 |
| 2.1 ZnO薄膜 | 第12-14页 |
| 2.2 AZO薄膜的制备工艺 | 第14-16页 |
| 2.2.1 磁控溅射法 | 第14页 |
| 2.2.2 化学气相沉积法 | 第14-15页 |
| 2.2.3 喷雾热分解法 | 第15页 |
| 2.2.4 溶胶—凝胶法 | 第15页 |
| 2.2.5 脉冲激光沉积法 | 第15-16页 |
| 2.2.6 分子束外延法 | 第16页 |
| 2.3 AZO薄膜的应用 | 第16-17页 |
| 2.3.1 透明导电薄膜 | 第16页 |
| 2.3.2 太阳能电池 | 第16-17页 |
| 2.4本文的研究内容、目的和意义 | 第17-18页 |
| 第三章 实验方法和分析表征 | 第18-26页 |
| 3.1 实验药品和仪器 | 第18-20页 |
| 3.2 清洗衬底 | 第20页 |
| 3.3 磁控溅射法制备AZO薄膜 | 第20-22页 |
| 3.3.1中频磁控溅射原理 | 第20-21页 |
| 3.3.2中频磁控溅射法制备AZO薄膜工艺流程 | 第21-22页 |
| 3.4 化学水浴法(CBD)制备AZO薄膜 | 第22-24页 |
| 3.4.1 化学水浴法原理 | 第22-23页 |
| 3.4.2 化学水浴法过程 | 第23-24页 |
| 3.5 实验测试方法 | 第24-26页 |
| 3.5.1 物相结构分析 | 第24页 |
| 3.5.2 微观形貌分析 | 第24-25页 |
| 3.5.3 光学性能分析 | 第25页 |
| 3.5.4 电学性能分析 | 第25-26页 |
| 第四章 结果与讨论 | 第26-64页 |
| 4.1 磁控溅射法制备AZO薄膜 | 第26-41页 |
| 4.1.1 磁控溅射AZO薄膜的沉积过程分析 | 第26-27页 |
| 4.1.2 衬底温度对AZO薄膜的影响 | 第27-33页 |
| 4.1.3 溅射时间对AZO薄膜的影响 | 第33-36页 |
| 4.1.4 退火温度对AZO薄膜的影响 | 第36-41页 |
| 4.2 水浴法制备AZO薄膜 | 第41-64页 |
| 4.2.1 晶种层的制备 | 第47-49页 |
| 4.2.2 水浴温度对AZO薄膜的影响 | 第49-53页 |
| 4.2.3 水浴pH值对AZO薄膜的影响 | 第53-59页 |
| 4.2.4 Al掺杂浓度对AZO薄膜的影响 | 第59-64页 |
| 第五章 结论 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 附录 作者攻读硕士期间发表的论文及成果 | 第71页 |
