金属纳米团簇的束流密度控制研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 1 绪论 | 第8-24页 |
| 1.1 课题背景与意义 | 第8-12页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第12-16页 |
| 1.3 团簇束流的制备方法 | 第16-18页 |
| 1.3.1 热蒸发法 | 第16-17页 |
| 1.3.2 激光蒸发法 | 第17页 |
| 1.3.3 磁控溅射法 | 第17-18页 |
| 1.3.4 液态金属离子法 | 第18页 |
| 1.4 团簇束流密度的提高方法 | 第18-20页 |
| 1.4.1 调节工艺参数 | 第18-19页 |
| 1.4.2 外场调控 | 第19-20页 |
| 1.5 团簇束流密度的测量方法 | 第20-22页 |
| 1.5.1 马赫增德尔干涉法 | 第20-21页 |
| 1.5.2 电荷量测量密度法 | 第21页 |
| 1.5.3 间接测量沉积速率法 | 第21-22页 |
| 1.6 本论文的研究目的及主要研究内容 | 第22-23页 |
| 1.6.1 研究目的 | 第22-23页 |
| 1.6.2 主要研究内容 | 第23页 |
| 1.7 本章小结 | 第23-24页 |
| 2 实验方案 | 第24-31页 |
| 2.1 金属纳米团簇束流的获得 | 第24-26页 |
| 2.1.1 实验原理 | 第24-25页 |
| 2.1.2 团簇源的特点 | 第25-26页 |
| 2.2 团簇束流密度的测定 | 第26-28页 |
| 2.3 团簇束流的聚焦 | 第28-29页 |
| 2.4 本章小结 | 第29-31页 |
| 3 工艺参数对束流密度的影响 | 第31-40页 |
| 3.1 溅射电流对束流密度的影响 | 第31-33页 |
| 3.2 气体流量对束流密度的影响 | 第33-34页 |
| 3.3 结露区长度对束流密度的影响 | 第34-35页 |
| 3.4 团簇薄膜 | 第35-36页 |
| 3.5 Au-Cu合金团簇束流 | 第36-39页 |
| 3.5.1 溅射电流对合金团簇束流密度的影响 | 第36-38页 |
| 3.5.2 气体流量对合金团簇束流束流密度的影响 | 第38-39页 |
| 3.6 本章小结 | 第39-40页 |
| 4 汇聚电场对束流密度的影响 | 第40-56页 |
| 4.1 团簇束流的初始状态 | 第40-41页 |
| 4.2 汇聚电场的设计 | 第41-46页 |
| 4.2.1 汇聚电压的确定 | 第41-43页 |
| 4.2.2 电极尺寸的确定 | 第43-45页 |
| 4.2.3 团簇速度对束流聚焦效果的影响 | 第45页 |
| 4.2.4 荷质比对束流聚焦效果的影响 | 第45-46页 |
| 4.3 汇聚电压对团簇束流聚焦效果的影响 | 第46-48页 |
| 4.4 工艺参数对团簇束流聚焦效果的影响 | 第48-53页 |
| 4.4.1 溅射电流对团簇束流聚焦的影响 | 第49-51页 |
| 4.4.2 气体流量对团簇束流聚焦的影响 | 第51-53页 |
| 4.5 电极尺寸对聚焦效果的影响 | 第53-54页 |
| 4.6 聚焦前后沉速率对比 | 第54-56页 |
| 5. 主要结论及展望 | 第56-58页 |
| 5.1 主要结论 | 第56页 |
| 5.2 下一步工作展望 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第64页 |
