| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-19页 |
| 1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第8-11页 |
| 1.2 磁头及精密研磨发展及国内外研究状况 | 第11-18页 |
| 1.2.1 磁记录技术的发展概况 | 第11-14页 |
| 1.2.2 磁头精密研磨在国内外的研究状况 | 第14-18页 |
| 1.3 本论文的主要研究内容 | 第18-19页 |
| 第2章 磁头研磨工艺分析 | 第19-29页 |
| 2.1 引言 | 第19页 |
| 2.2 磁头结构 | 第19-20页 |
| 2.3 磁头的生产工艺流程 | 第20-21页 |
| 2.4 磁头的研磨工艺 | 第21-25页 |
| 2.4.1 磁头研磨设备 | 第22-23页 |
| 2.4.2 磁头研磨方式 | 第23-25页 |
| 2.5 磁头研磨工艺中表面黑点的形成 | 第25-27页 |
| 2.5.1 磁头表面黑点的定义 | 第25-26页 |
| 2.5.2 磁头表面黑点形成的原因分析 | 第26-27页 |
| 2.6 本章小结 | 第27-29页 |
| 第3章 研磨工艺对磁头表面黑点影响的实验研究 | 第29-42页 |
| 3.1 引言 | 第29页 |
| 3.2 研磨工艺参数对黑点影响的实验研究 | 第29-38页 |
| 3.2.1 研磨磨剂分析 | 第29-32页 |
| 3.2.2 实验对比 | 第32-36页 |
| 3.2.3 研磨剂、研磨盘材质及研磨压力对黑点的影响实验 | 第36-38页 |
| 3.3 自由磨粒分离方法对黑点影响的实验研究 | 第38-41页 |
| 3.3.1 自由磨粒分离系统介绍 | 第38-39页 |
| 3.3.2 自由磨粒分离系统参数优化实验 | 第39-41页 |
| 3.4 本章小结 | 第41-42页 |
| 第4章 磁头研磨的高度控制工艺分析 | 第42-53页 |
| 4.1 引言 | 第42页 |
| 4.2 磁头电阻导向研磨原理介绍 | 第42-46页 |
| 4.3 磁头电阻导向研磨工艺分析 | 第46-52页 |
| 4.3.1 研磨PID控制过程分析 | 第46-49页 |
| 4.3.2 研磨角度控制分析 | 第49-52页 |
| 4.4 本章小结 | 第52-53页 |
| 第5章 磁头研磨的高度控制方法优化实验 | 第53-62页 |
| 5.1 引言 | 第53页 |
| 5.2 标准差分类控制研磨的实验研究 | 第53-57页 |
| 5.2.1 标准差分类控制研磨的程序优化 | 第53-54页 |
| 5.2.2 标准差分类控制研磨的实验研究 | 第54-57页 |
| 5.3 磁头研磨角度动态调节控制实验研究 | 第57-60页 |
| 5.3.1 角度动态调节控制的程序优化及硬件实现 | 第57-59页 |
| 5.3.2 角度动态调节控制的实验研究 | 第59-60页 |
| 5.4 本章小结 | 第60-62页 |
| 结论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 个人简历 | 第68页 |