| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-11页 |
| 1 绪论 | 第11-20页 |
| ·选题背景及研究意义 | 第11-12页 |
| ·国内外光谱涂层研究现状及发展 | 第12-19页 |
| ·太阳能光谱选择性吸收涂层的基本概念 | 第12-13页 |
| ·太阳能光谱选择性吸收涂层的基本原理 | 第13-15页 |
| ·太阳能光谱选择性吸收涂层的制备方法 | 第15-19页 |
| ·论文的研究内容和目标 | 第19-20页 |
| 2 实验装置和实验方法 | 第20-26页 |
| ·薄膜制备方法 | 第20-21页 |
| ·磁控溅射设备 | 第20页 |
| ·基体材料及预处理 | 第20页 |
| ·薄膜沉积工艺 | 第20-21页 |
| ·薄膜分析检测方法 | 第21-26页 |
| ·扫描电子显微分析 | 第21页 |
| ·透射电子显微镜分析 | 第21-22页 |
| ·X射线衍射分析 | 第22页 |
| ·X射线光电子能谱分析 | 第22-23页 |
| ·俄歇电子能谱分析 | 第23页 |
| ·原子力显微分析 | 第23页 |
| ·椭圆偏振光法 | 第23-24页 |
| ·薄膜的吸收率测量方法 | 第24页 |
| ·薄膜的发射率测试方法 | 第24-26页 |
| 3 Ti_(1-x)Al_xN薄膜制备工艺与性能研究 | 第26-38页 |
| ·制备工艺 | 第26页 |
| ·Ti_(1-x)Al_xN薄膜相结构 | 第26-27页 |
| ·Ti_(1-x)Al_xN薄膜微观形貌 | 第27-29页 |
| ·Ti_(1-x)Al_xN薄膜表面粗糙度 | 第29-30页 |
| ·Ti_(1-x)Al_xN薄膜耐高温性能 | 第30-31页 |
| ·Ti_(1-x)Al_xN薄膜光学性能 | 第31-37页 |
| ·小结 | 第37-38页 |
| 4 AlN_x薄膜制备工艺与性能研究 | 第38-44页 |
| ·AlN_x薄膜制备工艺 | 第38-39页 |
| ·氮氩比对AlN_x薄膜物相的影响 | 第39页 |
| ·氮氩比对AlN_x薄膜表面形貌的影响 | 第39-40页 |
| ·氮氩比对AlN_x薄膜沉积速率的影响 | 第40-41页 |
| ·氮氩比对AlN_x薄膜光学透过率的影响 | 第41-42页 |
| ·AlN_x薄膜的光学性能 | 第42-43页 |
| ·小结 | 第43-44页 |
| 5 光谱选择性吸收涂层优化设计与微观结构分析 | 第44-54页 |
| ·多层膜优化设计 | 第44-46页 |
| ·光谱涂层微观结构分析 | 第46-52页 |
| ·膜层成分分析 | 第47-48页 |
| ·微观结构分析 | 第48-52页 |
| ·小结 | 第52-54页 |
| 6 光谱选择性吸收涂层热稳定性研究 | 第54-66页 |
| ·空气中短期热稳定性研究 | 第54-60页 |
| ·空气中长期热稳定性研究 | 第60-61页 |
| ·在真空环境中热稳定研究 | 第61-65页 |
| ·小结 | 第65-66页 |
| 结论 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-72页 |
| 在学研究成果 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73页 |