| 摘要 | 第8-10页 |
| Abstract | 第10-12页 |
| 第一章 绪论 | 第13-43页 |
| 1.1 石墨烯及氧化石墨烯的研究进展 | 第13-22页 |
| 1.1.1 石墨烯及氧化石墨烯概述 | 第13-15页 |
| 1.1.2 石墨烯及氧化石墨烯的制备 | 第15-20页 |
| 1.1.3 石墨烯及氧化石墨烯在电化学传感器中的应用 | 第20-22页 |
| 1.2 金属铁氰化物化学修饰电极 | 第22-28页 |
| 1.2.1 金属铁氰化物简介 | 第22-23页 |
| 1.2.2 金属铁氰化物的电化学性质 | 第23-24页 |
| 1.2.3 金属铁氰化物修饰电极的制备方法 | 第24-26页 |
| 1.2.4 多核过渡金属铁氰化物修饰电极在电分析化学中的应用 | 第26-28页 |
| 1.2.5 多核过渡金属铁氰化物修饰电极发展的新趋势 | 第28页 |
| 1.3 介孔硅材料 | 第28-29页 |
| 1.4 本论文的整体构想及主要内容 | 第29-31页 |
| 参考文献 | 第31-43页 |
| 第二章 基于介孔硅泡沫修饰碳糊电极的制备及其对辣椒素的电化学氧化研究 | 第43-63页 |
| 2.1 引言 | 第43-44页 |
| 2.2 实验部分 | 第44-46页 |
| 2.2.1 化学试剂 | 第44-45页 |
| 2.2.2 实验仪器 | 第45页 |
| 2.2.3 电极的制备 | 第45-46页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第46-56页 |
| 2.3.1 bare CPE与MCFs/CPE修饰电极的形貌表征 | 第46页 |
| 2.3.2 MCFs/CPE的电化学表征 | 第46-49页 |
| 2.3.3 不同修饰电极对辣椒素的电化学响应 | 第49-50页 |
| 2.3.4 优化条件 | 第50-52页 |
| 2.3.5 标准曲线和检测限 | 第52-53页 |
| 2.3.6 重现性和稳定性 | 第53-54页 |
| 2.3.7 样品分析应用 | 第54页 |
| 2.3.8 干扰实验及实际样品分析 | 第54-56页 |
| 2.4 小结 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-63页 |
| 第三章 基于铁氰化镍-还原氧化石墨烯的葡萄糖无酶传感研究 | 第63-81页 |
| 3.1 引言 | 第63-64页 |
| 3.2 实验部分 | 第64-65页 |
| 3.2.1 实验试剂与实验仪器 | 第64页 |
| 3.2.2 修饰剂和修饰电极基底的处理 | 第64-65页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第65-76页 |
| 3.3.1 NiHCF/ERGO/GCE的制备及其形貌表征 | 第65-68页 |
| 3.3.2 不同修饰电极的电化学表征 | 第68-71页 |
| 3.3.3 NiHCF/ ERGO/GCE修饰电极的电化学行为 | 第71页 |
| 3.3.4 NiHCF/ REGO/GCE修饰电极对葡萄糖的电催化氧化 | 第71-74页 |
| 3.3.5 修饰电极对葡萄糖的计时电流响应 | 第74-75页 |
| 3.3.6 选择性研究 | 第75页 |
| 3.3.7 重现性和稳定性 | 第75-76页 |
| 3.4 本章小结 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-81页 |
| 第四章 铁氰化镍/钴-还原氧化石墨烯修饰电极电化学分离多巴胺、抗坏血酸和尿酸 | 第81-92页 |
| 4.1 引言 | 第81-82页 |
| 4.2 实验部分 | 第82-83页 |
| 4.2.1 实验试剂与实验仪器 | 第82页 |
| 4.2.2 修饰剂和修饰电极基底的处理 | 第82-83页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第83-89页 |
| 4.3.1 Co/Ni HCF/ERGO/GCE的制备及其形貌表征 | 第83-85页 |
| 4.3.2 不同修饰电极的电化学表征 | 第85-87页 |
| 4.3.3 Co/Ni HCF/ ERGO/GCE修饰电极对AA, DA和UA的电化学行为 | 第87-89页 |
| 4.4 小结 | 第89-90页 |
| 参考文献 | 第90-92页 |
| 攻读硕士期间发表的科研成果 | 第92-93页 |
| 致谢 | 第93页 |
