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TiO2@SiO2的制备及其光催化性能调控

摘要第4-6页
ABSTRACT第6-7页
第一章 绪论第11-25页
    引言第11页
    1.1 纳米二氧化钛第11-13页
        1.1.1 二氧化钛光催化机理第11-12页
        1.1.2 二氧化钛光催化氧化二氧化硫第12-13页
    1.2 二氧化钛的应用第13-14页
    1.3 二氧化钛纳米颗粒团聚原理第14-15页
        1.3.1 纳米颗粒的表面效应和小尺寸效应第14页
        1.3.2 范德华力和氢键第14页
        1.3.3 布朗运动第14-15页
        1.3.4 胶体稳定性的DLVO理论第15页
    1.4 二氧化钛表面无机处理第15-19页
        1.4.1 二氧化钛表面无机处理机理第15-16页
        1.4.2 影响无机表面处理的因素第16-17页
        1.4.3 二氧化钛表面无机处理种类第17-19页
    1.5 二氧化钛表面有机处理第19-22页
        1.5.1 二氧化钛表面有机处理机理第19-22页
        1.5.2 影响有机表面处理的因素第22页
        1.5.3 无机-有机联合处理第22页
    1.6 二氧化硅表面处理第22-23页
    1.7 选题意义及主要研究内容第23-25页
第二章 TiO_2@SiO_2壳层厚度可控制备及光催化性能研究第25-41页
    2.1 前言第25-26页
    2.2 实验部分第26-28页
        2.2.1 化学试剂及仪器第26页
        2.2.2 样品的制备第26-27页
        2.2.3 二氧化硅包覆二氧化钛的机理第27页
        2.2.4 样品的表征第27-28页
        2.2.5 样品的活性评价第28页
    2.3 结果与讨论第28-40页
        2.3.1 TiO_2@SiO_2-5样品表征及性能评价第28-32页
        2.3.2 TiO_2@SiO_2-100样品表征及性能评价第32-39页
        2.3.3 验证试验第39-40页
    2.4 本章小结第40-41页
第三章 TiO_2@SiO_2分散性能调控第41-51页
    3.1 前言第41-42页
    3.2 实验部分第42-43页
        3.2.1 化学试剂及仪器第42页
        3.2.2 有机物对TiO_2@SiO_2处理第42-43页
        3.2.3 TiO_2@SiO_2表面有机处理机理第43页
    3.3 结果与讨论第43-49页
        3.3.1 不同分散剂对TiO_2@SiO_2分散性能的影响第43-44页
        3.3.2 OTMS和马来酸酐十八烯共聚物处理TiO_2@SiO_2第44-45页
        3.3.3 KH-550处理TiO_2@SiO_2第45-49页
    3.4 本章小结第49-51页
第四章 TiO_2@SiO_2-K光催化氧化二氧化硫研究第51-59页
    4.1 前言第51-52页
    4.2 实验部分第52-55页
        4.2.1 化学试剂及仪器第52页
        4.2.2 光催化氧化二氧化硫的样品制备第52-53页
        4.2.3 甲醛溶液吸收盐酸副玫瑰苯胺分光光度计法测定二氧化钛氧化二氧化硫第53-55页
    4.3 结果与讨论第55-58页
        4.3.1 样品对二氧化硫气体的吸附第55-56页
        4.3.2 样品对二氧化硫气体的氧化(短周期)第56页
        4.3.3 样品对二氧化硫气体的氧化(长周期)第56-57页
        4.3.4 光催化氧化二氧化硫稳定性试验第57-58页
    4.4 本章小结第58-59页
第五章 结论与展望第59-61页
    5.1 结论第59页
    5.2 展望第59-61页
参考文献第61-65页
攻读学位期间发表的学术论文目录第65-67页
致谢第67页

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