| 中文摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-23页 |
| 1.1 共振泵浦技术原理 | 第10-11页 |
| 1.2 共振泵浦技术发展概况 | 第11-17页 |
| 1.2.1 基态低斯塔克能级共振泵浦研究现状 | 第11-15页 |
| 1.2.2 基态高斯塔克能级热助推泵浦研究现状 | 第15-17页 |
| 1.3 共振泵浦锁模激光器发展概况 | 第17-19页 |
| 1.4 喇曼锁模激光器发展概况 | 第19-21页 |
| 1.5 本文的研究内容 | 第21-23页 |
| 第2章 基于Cr~(4+):YAG的 914nm LD泵浦的Nd:YVO_4调Q锁模激光器 | 第23-41页 |
| 2.1 Cr~(4+):YAG被动锁模的原理 | 第23-29页 |
| 2.1.1 被动锁模原理简介 | 第23-25页 |
| 2.1.2 Cr~(4+):YAG晶体及其被动锁模原理 | 第25-27页 |
| 2.1.3 Cr~(4+):YAG晶体被动锁模速率方程 | 第27-29页 |
| 2.2 基于Cr~(4+):YAG的 914nm LD泵浦Nd:YVO_4被动调Q锁模激光器 | 第29-40页 |
| 2.2.1 实验装置及谐振腔设计 | 第29-34页 |
| 2.2.2 实验结果及分析 | 第34-40页 |
| 2.3 本章小结 | 第40-41页 |
| 第3章 基于半导体可饱和吸收镜的 914nm LD泵浦Nd:YVO_4被动锁模激光器 | 第41-55页 |
| 3.1 SESAM被动锁模原理 | 第41-44页 |
| 3.2 基于SESAM的 914nm LD泵浦Nd:YVO_4被动锁模激光器 | 第44-54页 |
| 3.2.1 实验装置及谐振腔设计 | 第44-47页 |
| 3.2.2 实验结果及分析 | 第47-54页 |
| 3.3 本章小结 | 第54-55页 |
| 第4章 914nm共振泵浦Nd:YVO_4自喇曼激光器 | 第55-69页 |
| 4.1 Nd:YVO_4晶体受激喇曼特性 | 第55-60页 |
| 4.1.1 受激喇曼散射 | 第55-57页 |
| 4.1.2 Nd:YVO_4的受激喇曼特性 | 第57-58页 |
| 4.1.3 主动调Q自喇曼激光器速率方程 | 第58-60页 |
| 4.2 914nm共振泵浦Nd:YVO_4主动调Q自喇曼激光器 | 第60-67页 |
| 4.2.1 实验装置 | 第60-61页 |
| 4.2.2 实验结果及分析 | 第61-67页 |
| 4.3 本章小结 | 第67-69页 |
| 第5章 总结与展望 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-76页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第76-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
