光学元件激光预处理技术研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-17页 |
| ·课题背景 | 第10-13页 |
| ·激光与能源 | 第10-12页 |
| ·激光武器 | 第12-13页 |
| ·激光通信 | 第13页 |
| ·国内外研究进展 | 第13-14页 |
| ·元件检测手段 | 第14-15页 |
| ·论文研究内容 | 第15-17页 |
| 第二章 激光预处理流程 | 第17-23页 |
| ·激光类型与预处理效果 | 第17-18页 |
| ·大、小光斑预处理 | 第18-21页 |
| ·离线处理与在线处理 | 第21页 |
| ·预处理工艺流程 | 第21-22页 |
| ·本章小结 | 第22-23页 |
| 第三章 紫外激光预处理 | 第23-33页 |
| ·HF 酸刻蚀 | 第23页 |
| ·缺陷的检测与分类 | 第23-26页 |
| ·HF 刻蚀工艺 | 第26-30页 |
| ·酸刻蚀实验 | 第26-27页 |
| ·结果与讨论 | 第27-30页 |
| ·紫外激光预处理 | 第30-32页 |
| ·紫外激光预处理实验 | 第30-31页 |
| ·紫外激光预处理结果与分析 | 第31-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第四章 CO_2激光预处理与退火工艺 | 第33-56页 |
| ·CO_2 激光修复理论基础 | 第33-39页 |
| ·修复模型的建立 | 第33-37页 |
| ·理论计算结果与讨论 | 第37-39页 |
| ·光弹性效应-应力测量 | 第39-41页 |
| ·CO_2 激光单点修复处理 | 第41-46页 |
| ·小于80 μm 缺陷的单点修复 | 第42-45页 |
| ·80 μm-500 μm 的单点修复 | 第45-46页 |
| ·样品表面的激光烧蚀与应力控制 | 第46-55页 |
| ·烧蚀的出现与控制 | 第46-49页 |
| ·应力与控制 | 第49-50页 |
| ·热退火 | 第50-55页 |
| ·总结 | 第55-56页 |
| 第五章 镀膜技术与二次预处理 | 第56-59页 |
| ·光学元件镀膜技术 | 第56-57页 |
| ·光学薄膜的缺陷与强激光损伤 | 第56-57页 |
| ·光学薄膜的激光预处理 | 第57-59页 |
| ·薄膜阈值增强技术 | 第57页 |
| ·二次预处理 | 第57-59页 |
| 第六章 总结与展望 | 第59-62页 |
| ·激光预处理工艺流程总结 | 第59-60页 |
| ·技术展望 | 第60-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-69页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第69-70页 |
