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PLD制备ZnO基稀磁半导体及其性能研究

中文摘要第2-3页
Abstract第3-4页
中文文摘第5-6页
目录第6-8页
绪论第8-16页
    第一节 稀磁半导体概述第8-10页
    第二节 ZnO基稀磁半导体研究概述第10-15页
    第三节 论文选题依据和主要研究内容第15-16页
第一章 ZnO基稀磁半导体的制备技术第16-20页
    第一节 溶胶-凝胶法第16页
    第二节 磁控溅射法第16-17页
    第三节 金属有机物气相沉积法(MOCVD)第17-18页
    第四节 喷雾热分解法第18页
    第五节 分子束外延法第18-19页
    第六节 离子注入法第19-20页
第二章 薄膜的制备方法和物理性能的表征方法第20-30页
    第一节 脉冲激光沉积概述第20-24页
    第二节 样品制备工艺第24-25页
    第三节 物理性能的表征方法及原理第25-30页
第三章 沉积温度对Zn_0.97Cr_0.030薄膜性质影响第30-38页
    第一节 前言第30页
    第二节 实验部分第30页
    第三节 结果与讨论第30-35页
    第四节 本章小结第35-38页
第四章 缺陷和价态对Zn_(0.97)Cr_(0.03)O薄膜磁性影响第38-48页
    第一节 前言第38-39页
    第二节 实验部分第39页
    第三节 结果与讨论第39-46页
    第四节 本章小结第46-48页
第五章 结论第48-50页
参考文献第50-60页
攻读学位期间承担的科研任务和主要成果第60-62页
致谢第62-64页
个人简介第64-66页

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