中文摘要 | 第2-3页 |
Abstract | 第3-4页 |
中文文摘 | 第5-6页 |
目录 | 第6-8页 |
绪论 | 第8-16页 |
第一节 稀磁半导体概述 | 第8-10页 |
第二节 ZnO基稀磁半导体研究概述 | 第10-15页 |
第三节 论文选题依据和主要研究内容 | 第15-16页 |
第一章 ZnO基稀磁半导体的制备技术 | 第16-20页 |
第一节 溶胶-凝胶法 | 第16页 |
第二节 磁控溅射法 | 第16-17页 |
第三节 金属有机物气相沉积法(MOCVD) | 第17-18页 |
第四节 喷雾热分解法 | 第18页 |
第五节 分子束外延法 | 第18-19页 |
第六节 离子注入法 | 第19-20页 |
第二章 薄膜的制备方法和物理性能的表征方法 | 第20-30页 |
第一节 脉冲激光沉积概述 | 第20-24页 |
第二节 样品制备工艺 | 第24-25页 |
第三节 物理性能的表征方法及原理 | 第25-30页 |
第三章 沉积温度对Zn_0.97Cr_0.030薄膜性质影响 | 第30-38页 |
第一节 前言 | 第30页 |
第二节 实验部分 | 第30页 |
第三节 结果与讨论 | 第30-35页 |
第四节 本章小结 | 第35-38页 |
第四章 缺陷和价态对Zn_(0.97)Cr_(0.03)O薄膜磁性影响 | 第38-48页 |
第一节 前言 | 第38-39页 |
第二节 实验部分 | 第39页 |
第三节 结果与讨论 | 第39-46页 |
第四节 本章小结 | 第46-48页 |
第五章 结论 | 第48-50页 |
参考文献 | 第50-60页 |
攻读学位期间承担的科研任务和主要成果 | 第60-62页 |
致谢 | 第62-64页 |
个人简介 | 第64-66页 |