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基于二氧化钒薄膜相变特性的可变反射率镜设计与制备

摘要第3-5页
Abstract第5-6页
第一章 绪论第9-18页
    1.1 可变反射率镜研究的背景和意义第9-10页
        1.1.1 研究背景和研究意义第9页
        1.1.2 可变反射率镜国内外研究现状第9-10页
    1.2 VO_2的相变特性及应用第10-15页
        1.2.1 VO_2的相变特性第10-12页
        1.2.2 VO_2的应用第12-14页
        1.2.3 VO_2薄膜制备及应用中存在的问题第14-15页
    1.3 基于VO_2薄膜的可变反射率镜背景分析第15-17页
        1.3.1 基于VO_2薄膜的可变反射率镜简介第15-16页
        1.3.2 基于VO_2薄膜的可变反射率镜的研究现状第16-17页
    1.4 论文主要研究内容和创新点第17-18页
第二章 VO_2薄膜的相变理论及制备表征方法第18-27页
    2.1 引言第18页
    2.2 VO_2晶体结构和相变机理第18-20页
        2.2.1 VO_2的晶体结构第18-19页
        2.2.2 VO_2的相变机理第19-20页
    2.3 VO_2薄膜的制备第20-23页
        2.3.1 脉冲激光沉积第21页
        2.3.2 溶胶-凝胶法第21页
        2.3.3 溅射法第21-23页
    2.4 VO_2薄膜的表征方法第23-27页
        2.4.1 X射线衍射(XRD)第23页
        2.4.2 扫描电子显微镜(SEM)第23-24页
        2.4.3 四探针测电阻第24-25页
        2.4.4 分光光度计第25页
        2.4.5 椭圆偏振技术(SE)第25-27页
第三章 直流反应磁控制备VO_2薄膜及其性能研究第27-46页
    3.1 基底温度对VO_2薄膜光电性能影响第28-37页
    3.2 基底偏压对钨掺杂VO_2薄膜光电特性影响第37-45页
    3.3 本章小结第45-46页
第四章 ZnO缓冲层诱导生长VO_2薄膜研究第46-70页
    4.1 ZnO缓冲层厚度对VO_2薄膜光电特性影响第46-59页
    4.2 基底偏压对ZnO缓冲层上沉积VO_2薄膜光电特性影响第59-68页
    4.3 本章小结第68-70页
第五章 基于VO_2薄膜的可变反射率镜设计与制备第70-77页
    5.1 基于VO_2薄膜相变特性的可变反射率镜结构示意图第70-71页
    5.2 VO_2薄膜光学常数的测定第71-73页
    5.3 可变反射率镜膜系设计第73-74页
    5.4 可变反射率镜制备与表征第74-76页
    5.5 本章小结第76-77页
第六章 全文总结第77-79页
参考文献第79-85页
致谢第85-86页
攻读硕士期间的研究成果第86页

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