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温敏型硫辛酸印迹聚合物的合成及缓释性能研究

摘要第6-8页
Abstract第8-10页
缩略词表第11-13页
第一章 绪论第13-31页
    1.1 α-硫辛酸第14-16页
    1.2 分子印迹技术(Molecular Imprinting Technique, MIT)及缓释功能第16-19页
        1.2.1 分子印迹技术基本原理第16-17页
        1.2.2 分子印迹技术在药物缓释领域的应用第17-18页
        1.2.3 缓释型活性包装材料第18-19页
    1.3 温敏型分子印迹技术第19-20页
        1.3.1 温敏型材料第19页
        1.3.2 温敏型分子印迹聚合物的基本理论第19-20页
        1.3.3 模板分子与温敏型MIPs的相互作用第20页
    1.4 基于壳聚糖的分子印迹技术第20-30页
        1.4.1 壳聚糖第20-21页
        1.4.2 壳聚糖在分子印迹聚合物中的作用第21-22页
            1.4.2.1 作为功能单体第21-22页
            1.4.2.2 作为功能载体第22页
        1.4.3 壳聚糖分子印迹聚合物中常用的交联剂第22-30页
            1.4.3.1 二醛第22-24页
            1.4.3.2 杂环化合物第24-26页
            1.4.3.3 醚第26页
            1.4.3.4 酰胺第26-27页
            1.4.3.5 酸第27-30页
    1.5 研究的主要内容及意义第30-31页
第二章 α-硫辛酸印迹聚合物的合成及表征第31-50页
    2.1 材料与方法第33-36页
        2.1.1 材料与试剂第33-34页
        2.1.2 仪器与设备第34页
        2.1.3 试验方法第34-36页
            2.1.3.1 MIPs的制备第34-35页
            2.1.3.2 MIPs中模板分子的洗脱第35页
            2.1.3.3 MIPs的表征第35页
            2.1.3.4 MIPs的识别效率表征第35-36页
    2.2 试验结果与讨论第36-48页
        2.2.1 MIPs和NIPs的表征结果第36-40页
            2.2.1.1 MIPs和NIPs的形态学表征结果第36-37页
            2.2.1.2 MIPs和NIPs的红外光谱实验第37-40页
        2.2.2 α-硫辛酸识别效率表征第40-48页
            2.2.2.1 α-硫辛酸最大吸收波长的确定第40页
            2.2.2.2 α-硫辛酸标准曲线的建立第40-41页
            2.2.2.3 壳聚糖与 α-硫辛酸最佳合成比例的确定第41-42页
            2.2.2.4 聚合物印迹效率评价第42-48页
    2.3 本章小结第48-50页
第三章 壳聚糖/聚乙烯醇共混型温敏分子印迹聚合物的合成及表征第50-59页
    3.1 材料与方法第50-53页
        3.1.1 材料与试剂第50-51页
        3.1.2 仪器与设备第51页
        3.1.3 试验方法第51-53页
            3.1.3.1 试剂配制第51页
            3.1.3.2 CS/PVA共混型分子印迹聚合物的合成第51页
            3.1.3.3 CS/PVA共混型分子印迹聚合物的形态学表征第51-52页
            3.1.3.4 CS/PVA共混型分子印迹聚合物的溶胀性能研究第52页
            3.1.3.5 ALA在不同pH条件下的释放动力学研究第52页
            3.1.3.6 ALA在不同温度条件下的释放动力学研究第52页
            3.1.3.7 CS/PVA共混型温敏分子印迹聚合物的红外光谱研究第52-53页
    3.2 结果与分析第53-58页
        3.2.1 α-硫辛酸标准曲线的建立第53页
        3.2.2 形态学表征第53-54页
        3.2.3 不同pH条件的溶胀试验第54-55页
        3.2.4 ALA在不同pH条件下的释放动力学第55页
        3.2.5 ALA在不同温度条件下的释放动力学第55-56页
        3.2.6 CS/PVA共混型分子印迹聚合物的红外光谱第56-58页
    3.3 本章小结第58-59页
第四章 壳聚糖-g-N-异丙基丙烯酰胺接枝型温敏分子印迹聚合物的合成及表征第59-68页
    4.1 材料与方法第61-63页
        4.1.1 材料与试剂第61页
        4.1.2 仪器与设备第61页
        4.1.3 试验方法第61-63页
            4.1.3.1 CS-g-NIPAM的合成第61-62页
            4.1.3.2 基于CS-g-NIPAM的温敏型MIPs的合成第62页
            4.1.3.3 基于CS-g-NIPAM的温敏型MIPs的形态学表征第62页
            4.1.3.4 CS及其接枝产物CS-g-NIPAM的红外光谱研究第62页
            4.1.3.5 MIPs的临界温度研究第62页
            4.1.3.6 ALA在不同温度条件下的释放动力学研究第62-63页
    4.2 试验结果与分析第63-66页
        4.2.1 形态学表征第63页
        4.2.2 CS-g-NIPAM接枝产物的红外光谱分析第63-64页
        4.2.3 LCST研究第64-65页
        4.2.4 ALA在不同温度条件下的释放动力学第65-66页
    4.3 本章小结第66-68页
主要学术研究价值与展望第68-70页
致谢第70-71页
参考文献第71-79页
附录第79-81页
    公开发表论文第79页
    获得奖项第79-80页
    参与项目情况第80-81页
图版第81-84页
声明第84-85页

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