TFC磁头磁盘界面气体薄膜多物理场耦合特性分析
摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第10-19页 |
1.1 课题的研究背景与意义 | 第10-11页 |
1.2 磁头磁盘界面技术的发展 | 第11-12页 |
1.3 磁头磁盘界面国内外研究现状 | 第12-18页 |
1.3.1 国外研究现状 | 第12-15页 |
1.3.2 国内研究现状 | 第15-18页 |
1.4 本文的主要研究内容 | 第18-19页 |
第2章 磁头磁盘界面多物理场理论分析 | 第19-31页 |
2.1 磁头磁盘界面热量传递的分析 | 第19-24页 |
2.1.1 磁头磁盘系统热传导理论分析 | 第19-22页 |
2.1.2 磁头磁盘间隙热对流分析 | 第22-23页 |
2.1.3 磁头气浮面的热变形分析 | 第23-24页 |
2.2 流体场的理论分析 | 第24-28页 |
2.2.1 气体薄膜的运动和压强分析 | 第25-27页 |
2.2.2 气浮面的压强分析 | 第27-28页 |
2.3 磁头振动与摆动的理论分析 | 第28-30页 |
2.4 本章小结 | 第30-31页 |
第3章 磁头磁盘系统温度分布以及磁头热变形 | 第31-46页 |
3.1 磁头磁盘界面模型与多物理场的定义 | 第31-33页 |
3.2 多物理场耦合作用下磁头磁盘界面的温度分布 | 第33-37页 |
3.3 磁头的热变形 | 第37-43页 |
3.3.1 平板磁头的热变形 | 第37-39页 |
3.3.2 磁头A和磁头B的热变形 | 第39-43页 |
3.4 工作参数对磁头热变形的影响 | 第43-45页 |
3.4.1 加热功率对磁头热变形的影响 | 第43-44页 |
3.4.2 磁头飞行速度对磁头热变形的影响 | 第44-45页 |
3.5 本章小结 | 第45-46页 |
第4章 磁头气浮面的压强分析 | 第46-64页 |
4.1 气浮面的压强分布 | 第46-51页 |
4.1.1 平板型磁头压强分布 | 第46-48页 |
4.1.2 磁头A气浮面压强分布 | 第48-49页 |
4.1.3 磁头B气浮面压强分布 | 第49-51页 |
4.2 工作参数对磁头飞行稳定性的影响 | 第51-63页 |
4.2.1 磁头飞行高度对磁头飞行稳定性的影响 | 第51-54页 |
4.2.2 磁头飞行速度对磁头飞行稳定性的影响 | 第54-57页 |
4.2.3 加热功率对磁头飞行稳定性的影响 | 第57-60页 |
4.2.4 磁头俯仰角对磁头飞行稳定性的影响 | 第60-63页 |
4.3 本章小结 | 第63-64页 |
第5章 磁头的振动与摆动 | 第64-72页 |
5.1 磁头振动与摆动建模 | 第64-67页 |
5.2 磁头的振动和摆动运动分析 | 第67-68页 |
5.3 弹性系数对磁头振动的影响 | 第68-69页 |
5.4 弹性系数对磁头俯仰角摆动的影响 | 第69-71页 |
5.5 本章小结 | 第71-72页 |
结论 | 第72-74页 |
参考文献 | 第74-80页 |
攻读硕士学位期间发表的论文 | 第80-81页 |
致谢 | 第81页 |