磁控溅射法制备硅碳氮薄膜及其性能研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 引言 | 第9-17页 |
| 1.1 硅碳氮薄膜的研究背景 | 第9-10页 |
| 1.2 硅碳氮薄膜的研究现状 | 第10-15页 |
| 1.2.1 硅碳氮薄膜的结构 | 第10-12页 |
| 1.2.2 硅碳氮材料的制备方法 | 第12-13页 |
| 1.2.3 硅碳氮薄膜的光学特性 | 第13-14页 |
| 1.2.4 硅碳氮薄膜的场发射性能 | 第14-15页 |
| 1.3 本文的工作 | 第15-17页 |
| 第二章 硅碳氮薄膜的制备及表征 | 第17-31页 |
| 2.1 磁控溅射原理 | 第17-23页 |
| 2.1.1 溅射原理 | 第17-18页 |
| 2.1.2 直流溅射 | 第18-19页 |
| 2.1.3 射频溅射 | 第19-20页 |
| 2.1.4 反应溅射 | 第20-21页 |
| 2.1.5 离子束溅射 | 第21-22页 |
| 2.1.6 磁控溅射 | 第22-23页 |
| 2.2 硅碳氮薄膜的制备 | 第23-26页 |
| 2.2.1 实验设备 | 第23-25页 |
| 2.2.2 实验方案 | 第25页 |
| 2.2.3 工艺流程 | 第25-26页 |
| 2.3 薄膜结构及性能表征方法 | 第26-31页 |
| 2.3.1 扫描电子显微镜 | 第26-27页 |
| 2.3.2 能量色散谱 | 第27页 |
| 2.3.3 X射线衍射 | 第27页 |
| 2.3.4 傅里叶变换叶红外光谱 | 第27-28页 |
| 2.3.5 紫外-可见分光光度计 | 第28页 |
| 2.3.6 光致发光光谱 | 第28页 |
| 2.3.7 场致电子发射 | 第28-31页 |
| 第三章 氮化硅靶材溅射功率对硅碳氮薄膜的影响 | 第31-47页 |
| 3.1 硅碳氮薄膜的成分 | 第32-35页 |
| 3.2 硅碳氮薄膜的结构 | 第35-39页 |
| 3.2.1 晶体结构 | 第35-38页 |
| 3.2.2 成键结构 | 第38-39页 |
| 3.3 硅碳氮薄膜的表面形貌 | 第39-40页 |
| 3.4 光学性能 | 第40-43页 |
| 3.4.1 光透过性 | 第40-41页 |
| 3.4.2 光学带隙 | 第41-42页 |
| 3.4.3 光致荧光发光性能 | 第42-43页 |
| 3.5 场发射性能 | 第43-45页 |
| 3.6 本章小结 | 第45-47页 |
| 第四章 石墨靶材溅射功率对硅碳氮薄膜的影响 | 第47-59页 |
| 4.1 硅碳氮薄膜的成分 | 第47-49页 |
| 4.2 硅碳氮薄膜的结构 | 第49-52页 |
| 4.2.1 晶体结构 | 第49-51页 |
| 4.2.2 成键结构 | 第51-52页 |
| 4.3 硅碳氮薄膜的表面形貌 | 第52-53页 |
| 4.4 光学性能 | 第53-56页 |
| 4.4.1 光透过性 | 第53-54页 |
| 4.4.2 光学带隙 | 第54-55页 |
| 4.4.3 光致荧光发光性能 | 第55-56页 |
| 4.5 场发射性能 | 第56-58页 |
| 4.6 本章小结 | 第58-59页 |
| 第五章 其他因素对硅碳氮薄膜的影响 | 第59-73页 |
| 5.1 硅碳氮薄膜的成分 | 第60-63页 |
| 5.2 硅碳氮薄膜的结构 | 第63-66页 |
| 5.3 硅碳氮薄膜的表面形貌 | 第66-68页 |
| 5.4 光学性能 | 第68-72页 |
| 5.4.1 光透过性 | 第68-69页 |
| 5.4.2 光学带隙 | 第69-71页 |
| 5.4.3 光致荧光发光性能 | 第71-72页 |
| 5.5 本章小结 | 第72-73页 |
| 第六章 总结与展望 | 第73-77页 |
| 6.1 工作总结 | 第73-74页 |
| 6.1.1 靶材溅射功率对硅碳氮薄膜的影响 | 第73-74页 |
| 6.1.2 其他因素对硅碳氮薄膜的影响 | 第74页 |
| 6.2 展望 | 第74-77页 |
| 参考文献 | 第77-87页 |
| 攻读硕士学位期间取得的科研成果 | 第87-89页 |
| 致谢 | 第89页 |
