| 中文摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第一章 引言 | 第8-15页 |
| 1.1 研究背景 | 第8-9页 |
| 1.2 表面等离子激元 | 第9-12页 |
| 1.2.1 表面等离子激元特性 | 第9页 |
| 1.2.2 表面等离子体的研究进展和应用 | 第9-12页 |
| 1.3 纳米材料技术 | 第12-13页 |
| 1.3.1 纳米金属薄膜的特性及其应用 | 第12页 |
| 1.3.2 纳米金属薄膜的理论研究现状 | 第12-13页 |
| 1.4 论文主要内容及结构 | 第13-15页 |
| 第二章 Lorentz_Drude模型的分析以及差分进化算法介绍 | 第15-20页 |
| 2.1 经典Drude模型 | 第15页 |
| 2.2 Lorentz_Drude模型 | 第15-17页 |
| 2.3 差分进化算法 | 第17-19页 |
| 2.3.1 差分进化算法的基本操作 | 第17-18页 |
| 2.3.2 差分进化算法的流程 | 第18-19页 |
| 2.4 本章小结 | 第19-20页 |
| 第三章 差分进化算法对修正的Lorentz_Drude模型参数的优化 | 第20-34页 |
| 3.1 金属的主要物理参数 | 第20-22页 |
| 3.1.1 等离子体频率 | 第20-21页 |
| 3.1.2 电子有效质量 | 第21-22页 |
| 3.2 传统Drude和Lorentz_Drude模型优化分析 | 第22-25页 |
| 3.2.1 传统Drude模型优化分析 | 第22-23页 |
| 3.2.2 Lorentz_Drude模型优化分析 | 第23-25页 |
| 3.3 基于差分进化算法的修正Lorentz_Drude模型分析 | 第25-33页 |
| 3.3.1 金属在全波段的物理效应 | 第25-26页 |
| 3.3.2 基于差分进化算法的修正Lorentz_Drude模型优化分析及参数对比 | 第26-31页 |
| 3.3.3 等离子体频率和弛豫时间的数值解与解析解对比 | 第31-32页 |
| 3.3.4 修正的电子有效质量 | 第32-33页 |
| 3.4 本章小结 | 第33-34页 |
| 第四章 不同金属薄膜厚度对介电常数的影响分析 | 第34-45页 |
| 4.1 金属薄膜的电导率 | 第34-35页 |
| 4.2 金属薄膜的电导率变化的FS-MS模型 | 第35-38页 |
| 4.3 金属薄膜厚度对介电常数的影响 | 第38-43页 |
| 4.4 本章小结 | 第43-45页 |
| 第五章 研究结论与展望 | 第45-47页 |
| 5.1 研究结论 | 第45-46页 |
| 5.2 展望 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-50页 |
| 在学期间的研究成果 | 第50-51页 |
| 致谢 | 第51页 |
