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基于表面等离子体的V形天线的设计与研究

摘要第5-7页
abstract第7-8页
简缩字表第12-13页
第一章 绪论第13-32页
    1.1 纳米光子学第13-15页
    1.2 基于表面等离子体的光束调控方式第15-23页
        1.2.1 基于表面等离子体的亚波长结构增透现象第15-16页
        1.2.2 负折射完美透镜第16-18页
        1.2.3 基于表面等离子体的平面聚焦透镜第18-19页
        1.2.4 偏振调制第19-21页
        1.2.5 微纳光学全息成像第21-23页
    1.3 基于表面等离子体的微纳结构光束聚焦器件研究现状第23-30页
        1.3.1 微透镜结构第23-24页
        1.3.2 一维微纳凹槽结构第24-26页
        1.3.3 二维微纳点聚焦器件第26-28页
        1.3.4 单臂等离子体纳米天线第28-29页
        1.3.5 V形等离子体纳米天线第29-30页
    1.4 等离子体纳米天线研究存在的科学问题第30页
    1.5 本文的主要工作与创新第30-31页
    1.6 本论文的结构安排第31-32页
第二章 表面等离子体纳米天线基本理论第32-47页
    2.1 表面等离子体基本理论第32-42页
        2.1.1 表面等离子体存在的物理条件第32-36页
        2.1.2 金属的Drude色散模型第36-39页
        2.1.3 表面等离子体色散特性第39-41页
        2.1.4 表面等离子体激发方式第41-42页
    2.2 表面等离子体纳米天线特性第42-43页
    2.3 电磁场模型计算方法第43-46页
        2.3.1 时域有限差分法第44-45页
        2.3.2 有限元法第45-46页
    2.4 本章小结第46-47页
第三章 基于表面等离子体的V形纳米天线结构设计第47-55页
    3.1 V形纳米天线简介第47-48页
        3.1.1 V形纳米天线结构模型第47-48页
        3.1.2 V形纳米天线共振模式第48页
    3.2 V形纳米天线仿真计算第48-53页
        3.2.1 单元V形纳米天线计算模型第49页
        3.2.2 不同结构参数的V形纳米天线相位及振幅响应第49-53页
    3.3 光束偏折器的设计第53-54页
    3.4 本章小结第54-55页
第四章 基于表面等离子体V形纳米天线平面聚焦透镜设计第55-67页
    4.1 表面等离子体平面聚焦透镜的设计第55-58页
        4.1.1 设计原理第55-56页
        4.1.2 V形纳米天线结构选择第56-58页
    4.2 基于V形纳米天线阵列的一维柱聚焦透镜第58-60页
        4.2.1 一维阵列结构设计第58-59页
        4.2.2 一维柱聚焦仿真计算第59-60页
    4.3 基于V形纳米天线阵列的二维点聚焦透镜第60-66页
        4.3.1 二维环形排列方式第60-61页
        4.3.2 大数量纳米天线阵列自动排列方法第61-65页
        4.3.3 二维点聚焦仿真结果及分析第65-66页
    4.4 本章小结第66-67页
第五章 V形纳米天线平面聚焦透镜性能研究第67-82页
    5.1 基于MIM结构的表面等离子体增强型透镜第67-72页
        5.1.1 MIM结构设计的目的及原理第67-68页
        5.1.2 基于MIM结构设计的平面聚焦透镜仿真计算及分析第68-72页
    5.2 浸油型超透镜第72-77页
        5.2.1 浸油设计的目的及原理第72-73页
        5.2.2 浸油型超透镜仿真计算及分析第73-77页
    5.3 平面聚焦透镜的宽波段聚焦特性第77-79页
    5.4 平面聚焦透镜的斜入射聚焦特性第79-80页
    5.5 本章小结第80-82页
第六章 基于V形纳米天线的超振荡远场超分辨聚焦研究第82-103页
    6.1 超振荡研究简介第82-85页
    6.2 基于V形纳米天线的超振荡远场超分辨聚焦透镜设计第85-93页
        6.2.1 基于V形纳米天线的远场聚焦透镜设计第87-89页
        6.2.2 超振荡调制第89-91页
        6.2.3 远场超分辨聚焦结果分析第91-93页
    6.3 样品制备第93-100页
        6.3.1 复杂微纳结构制备方法第93-94页
        6.3.2 双光子直写制备工艺探索第94-96页
        6.3.3 聚焦电子束技术第96-97页
        6.3.4 Lift-Off制备工艺流程第97-99页
        6.3.5 样品表征第99-100页
    6.4 光学检测第100-102页
        6.4.1 光学测试平台搭建第100-101页
        6.4.2 测试数据处理及分析第101-102页
    6.5 本章小结第102-103页
第七章 全文总结与展望第103-106页
    7.1 全文总结第103-104页
    7.2 后续工作展望第104-106页
致谢第106-107页
参考文献第107-118页
攻读博士学位期间取得的成果第118-120页

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