| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 1 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 研究背景及研究意义 | 第10-12页 |
| 1.1.1 激光驱动飞片技术 | 第10-11页 |
| 1.1.2 含能复合薄膜 | 第11-12页 |
| 1.1.3 研究意义 | 第12页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第12-17页 |
| 1.2.1 氧化还原体系含能复合薄膜材料的研究概况 | 第12-14页 |
| 1.2.2 复合飞片烧蚀层材料的研究概况 | 第14-15页 |
| 1.2.3 复合飞片隔热层研究概况 | 第15-16页 |
| 1.2.4 激光烧蚀薄膜产生等离子体研究概况 | 第16-17页 |
| 1.3 本文的主要研究内容 | 第17-19页 |
| 2 Al-TiO_2、Al-MnO_2薄膜的制备与表征 | 第19-26页 |
| 2.1 薄膜制备方法 | 第19-21页 |
| 2.1.1 磁控溅射原理 | 第19页 |
| 2.1.2 实验设备 | 第19-20页 |
| 2.1.3 工艺流程及工艺条件 | 第20页 |
| 2.1.4 镀膜流程 | 第20-21页 |
| 2.1.5 薄膜制备参数 | 第21页 |
| 2.2 复合薄膜表征 | 第21-25页 |
| 2.2.1 薄膜XRD分析 | 第22-23页 |
| 2.2.2 薄膜SEM分析 | 第23-25页 |
| 2.3 小结 | 第25-26页 |
| 3 激光诱导Al-TiO_2、Al-MnO_2复合薄膜发射光谱分析 | 第26-46页 |
| 3.1 等离子体特性研究理论与实验方法 | 第26-30页 |
| 3.1.1 等离子体特性实验方法 | 第26-28页 |
| 3.1.2 等离子体电子温度计算方法 | 第28页 |
| 3.1.3 等离子体电子密度计算方法 | 第28-30页 |
| 3.2 发射光谱定性分析 | 第30-32页 |
| 3.3 等离子体电子温度 | 第32-38页 |
| 3.3.1 等离子体温度测量 | 第32-33页 |
| 3.3.2 激光脉冲能量对等离子体电子温度的影响 | 第33-36页 |
| 3.3.3 复合薄膜等离子体电子温度随延迟时间的变化 | 第36-38页 |
| 3.4 等离子体电子密度 | 第38-44页 |
| 3.4.1 复合薄膜发射光谱展宽特点 | 第38-39页 |
| 3.4.2 不同调制周期复合薄膜等离子体电子密度 | 第39-44页 |
| 3.4.3 局部热力学平衡验证 | 第44页 |
| 3.5 小结 | 第44-46页 |
| 4 复合等离子体驱动复合飞片速度特性研究 | 第46-64页 |
| 4.1 飞片速度测量方法 | 第46-47页 |
| 4.2 PVDF测速 | 第47-52页 |
| 4.2.1 激光能量对Al-TiO_2飞片速度的影响 | 第48-51页 |
| 4.2.2 激光能量对Al-MnO_2飞片速度的影响 | 第51-52页 |
| 4.3 PDV测速 | 第52-58页 |
| 4.3.1 飞片速度测试 | 第55-58页 |
| 4.4 飞片形态分析 | 第58-62页 |
| 4.4.1 薄膜剪切形貌表征 | 第59-61页 |
| 4.4.2 飞片撞击形貌表征 | 第61-62页 |
| 4.5 小结 | 第62-64页 |
| 5 总结 | 第64-66页 |
| 5.1 本文工作总结 | 第64-65页 |
| 5.2 创新点 | 第65页 |
| 5.3 工作展望 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-71页 |
| 附录 | 第71页 |
