摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-11页 |
第一章 绪论 | 第11-19页 |
·金属基复合涂层及其制备 | 第11-12页 |
·金属基复合材料概述 | 第11页 |
·金属基复合材料的制备 | 第11-12页 |
·复合电沉积技术 | 第12-14页 |
·复合电沉积技术的发展 | 第12页 |
·复合电沉积技术的用途 | 第12-13页 |
·复合电沉积技术的影响因素 | 第13页 |
·复合电沉积的机理 | 第13-14页 |
·目前复合电沉积技术应用的局限性 | 第14页 |
·离子液体复合电沉积 | 第14-17页 |
·离子液体的种类及性质 | 第14-15页 |
·离子液体在电沉积中的应用 | 第15-16页 |
·离子液体复合电沉积的研究现状 | 第16-17页 |
·Al-Al_2O_3复合涂层的研究现状 | 第17页 |
·课题的提出及意义 | 第17-19页 |
·存在的问题及解决方法 | 第17-18页 |
·课题的研究内容及意义 | 第18-19页 |
第二章 试验方法 | 第19-23页 |
·沉降试验 | 第19页 |
·纳米α-Al_2O_3颗粒的前处理 | 第19页 |
·沉降悬浮液的制备 | 第19页 |
·镀层制备 | 第19-21页 |
·AlCl_3-EMIC室温离子液体的制备 | 第20页 |
·1Cr17 的前处理 | 第20页 |
·阳极Al的前处理 | 第20页 |
·复合镀镀液的制备 | 第20页 |
·电沉积参数 | 第20-21页 |
·试样放置方式 | 第21页 |
·试样的热处理 | 第21页 |
·检测 | 第21-23页 |
·外观 | 第21-22页 |
·表面粗糙度测量 | 第22页 |
·金相观察 | 第22页 |
·硬度测试 | 第22页 |
·扫描电镜观察及能谱分析 | 第22页 |
·X射线衍射分析 | 第22页 |
·镀层中Al_2O_3体积分数的测定 | 第22-23页 |
第三章 Al_2O_3颗粒在AlCl_3-EMIC中的分散稳定性和机制 | 第23-27页 |
·引言 | 第23页 |
·Al_2O_3颗粒在EMIC-AlCl_3中的分散稳定性 | 第23-24页 |
·Al_2O_3颗粒在EMIC-AlCl_3中的分散机制 | 第24-26页 |
·本章小结 | 第26-27页 |
第四章 AlCl_3-EMIC离子液体中Al-Al_2O_3颗粒的共沉积 | 第27-45页 |
·引言 | 第27页 |
·Al_2O_3的共沉积对电沉积Al形貌的影响 | 第27-32页 |
·镀层表面形貌 | 第27-28页 |
·镀层表面粗糙度 | 第28-29页 |
·镀层界面形貌 | 第29-31页 |
·镀层断口形貌 | 第31-32页 |
·镀液中Al_2O_3颗粒的浓度对镀层中Al_2O_3体积分数的影响 | 第32页 |
·Al_2O_3的共沉积对电沉积Al的影响 | 第32-38页 |
·电沉积镀层的XRD分析 | 第32-34页 |
·电沉积Al的晶面间距 | 第34-35页 |
·电沉积Al的晶格常数 | 第35页 |
·电沉积Al的晶体取向 | 第35-37页 |
·电沉积Al的晶粒尺寸 | 第37-38页 |
·电沉积Al的速率 | 第38页 |
·Al_2O_3的共沉积对镀层硬度的影响 | 第38-42页 |
·AlCl_3-EMIC室温离子液体中Al和Al_2O_3的共沉积机理 | 第42-43页 |
·本章小结 | 第43-45页 |
第五章 α-Al_2O_3对热处理过程中Al扩散的影响 | 第45-61页 |
·引言 | 第45页 |
·670℃热处理 | 第45-52页 |
·纯Al镀层热处理后的合金层组织与成分 | 第45-48页 |
·Al-Al_2O_3复合镀层热处理后的合金层组织与成分 | 第48-51页 |
·670℃下Al_2O_3颗粒对Al扩散的影响 | 第51-52页 |
·600℃热处理 | 第52-60页 |
·纯Al镀层热处理后的合金层组织与成分 | 第53-56页 |
·Al-Al_2O_3镀层镀层热处理后的合金层组织与成分 | 第56-59页 |
·600℃下Al_2O_3颗粒对Al扩散的影响 | 第59-60页 |
·本章小结 | 第60-61页 |
第六章 结论 | 第61-63页 |
参考文献 | 第63-69页 |
致谢 | 第69-71页 |
个人简历 | 第71-73页 |
攻读硕士学位期间发表的论文 | 第73页 |