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用于声表面波器件制备的激光直写光刻工艺研究

摘要第1-6页
ABSTRACT第6-10页
第一章 绪论第10-16页
   ·引言第10-11页
   ·声表面波微驱动器件研究的历史与现状第11-13页
     ·声表面波器件的历史第11页
     ·国内外声表面波微驱动器的研究现状第11-13页
   ·本文主要研究内容第13-16页
第二章 声表面波驱动器的理论基础第16-24页
   ·引言第16页
   ·声表面波简介第16-17页
   ·声表面波与压电材料第17-23页
     ·压电材料的压电效应第18-20页
     ·压电材料的选择第20-21页
     ·铌酸锂晶体的压电性质第21-23页
   ·本章总结第23-24页
第三章 激光直写光刻工艺研究及实验平台设计开发第24-40页
   ·引言第24页
   ·激光直写光刻工艺方案研究第24-34页
     ·叉指换能器的参数设计第25-26页
     ·激光直写光刻工艺方案研究第26-34页
   ·激光直写程控光刻平台设计与开发第34-38页
   ·本章总结第38-40页
第四章 激光和步进电机对光刻参数的影响第40-56页
   ·引言第40页
   ·光刻参数探索第40-54页
     ·程控光刻路线设计第40-42页
     ·激光功率与光刻线宽的关系第42-46页
     ·晶片离焦与光刻线宽的关系第46-51页
     ·光刻胶倒梯形边缘形成第51-54页
   ·本章总结第54-56页
第五章 叉指电极制作工艺第56-66页
   ·引言第56-57页
   ·真空蒸镀工艺制作IDT第57页
   ·真空磁控溅射工艺制作IDT第57-60页
   ·真空离子溅射工艺制作IDT第60-63页
   ·叉指换能器电路连接第63-64页
   ·本章总结第64-66页
第六章 结论第66-68页
参考文献第68-72页
附录第72-84页
研究生期间所取得的相关科研成果第84-86页
致谢第86-87页

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