MPCVD法制备石墨烯的研究

摘要	第1-7页
Abstract	第7-9页
目录	第9-11页
第一章 绪论	第11-31页
·石墨烯的结构与性能	第11-17页
·石墨烯的结构	第11-13页
·石墨烯的性能	第13-17页
·石墨烯的发现	第17页
·石墨烯的制备方法	第17-24页
·机械剥离法	第17-18页
·化学气相沉积法	第18-22页
·氧化还原法	第22-23页
·碳化硅外延生长法	第23-24页
·石墨烯的应用前景	第24-29页
·电子器件	第25-26页
·储能材料	第26-28页
·传感器件	第28-29页
·其他应用	第29页
·本课题研究的目的以及意义	第29-30页
·本研究的主要内容	第30-31页
第二章 实验装置及表征	第31-43页
·实验药品	第31-32页
·实验装置及过程	第32-36页
·多弧磁控溅射装置	第32-33页
·MPCVD 沉积装置	第33-34页
·实验过程	第34-36页
·样品表征	第36-43页
·光学显微镜	第37-38页
·拉曼光谱仪	第38-40页
·原子力显微镜	第40-41页
·扫描电子显微镜	第41-43页
第三章 工艺参数对石墨烯质量的影响	第43-53页
·腔体气压对石墨烯薄膜质量的影响	第43-46页
·微波功率对石墨烯薄膜质量的影响	第46-49页
·气体比例对石墨烯质量的影响	第49-52页
·本章小结	第52-53页
第四章 辅助气体对沉积石墨烯薄膜质量的影响	第53-61页
·氩气对石墨烯沉积的影响	第53-57页
·氩气引入后石墨烯薄膜的沉积	第53-55页
·氩气流量对沉积薄膜质量的影响	第55-57页
·氮气的引入对沉积薄膜质量的影响	第57-58页
·本章小结	第58-61页
第五章 全文总结及展望	第61-63页
·全文总结	第61-62页
·展望	第62-63页
参考文献	第63-71页
攻读硕士期间已发表的论文	第71-73页
致谢	第73页