| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-17页 |
| ·引言 | 第7-8页 |
| ·热电效应 | 第8-11页 |
| ·塞贝克效应 | 第8-9页 |
| ·珀尔帖效应 | 第9页 |
| ·汤姆逊效应 | 第9-10页 |
| ·热传导特性 | 第10-11页 |
| ·Bi_2Te_3的研究现状 | 第11-14页 |
| ·Bi_2Te_3的结构特征 | 第11-12页 |
| ·Bi_2Te_3的合成机理 | 第12页 |
| ·Bi_2Te_3的合成方法 | 第12-14页 |
| ·本论文的研究意义 | 第14-15页 |
| ·本论文的研究内容 | 第15-17页 |
| 第二章 实验设计及表征方法 | 第17-21页 |
| ·实验原料及仪器 | 第17-18页 |
| ·实验原料 | 第17页 |
| ·实验仪器 | 第17-18页 |
| ·实验技术路线 | 第18-19页 |
| ·样品性能表征方法 | 第19-21页 |
| ·X射线衍射仪(XRD) | 第19页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第19-20页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第20页 |
| ·热导率测试仪 | 第20页 |
| ·塞贝克(seebeck)系数/电阻分析系统 | 第20页 |
| ·维氏硬度测试 | 第20-21页 |
| 第三章 可控合成不同微观结构的Bi_2Te_3纳米片 | 第21-35页 |
| ·实验 | 第21页 |
| ·合成具有明显取向优势的层片状Bi_2Te_3多晶纳米片 | 第21-23页 |
| ·合成无取向优势的Bi_2Te_3多晶纳米片 | 第23-25页 |
| ·关键工艺参数对纳米Bi_2Te_3微观结构的影响 | 第25-32页 |
| ·反应溶剂的影响 | 第25-28页 |
| ·PH的影响 | 第28-30页 |
| ·表面活性剂的影响 | 第30-32页 |
| ·本章小结 | 第32-35页 |
| 第四章 纳米Bi_2Te_3的合成机理 | 第35-41页 |
| ·实验 | 第35页 |
| ·反应机理的讨论 | 第35-39页 |
| ·未还原剂时合成纳米Bi_2Te_3的反应过程分析 | 第35-36页 |
| ·添加还原剂时合成纳米Bi_2Te_3的反应过程分析 | 第36-39页 |
| ·本章小结 | 第39-41页 |
| 第五章 Bi_2Te_3块体试样的性能分析 | 第41-49页 |
| ·Bi_2Te_3块体试样压制 | 第41页 |
| ·Bi_2Te_3块体试样的热电性能分析 | 第41-45页 |
| ·Bi_2Te_3块体热导率的测试 | 第41-43页 |
| ·Bi_2Te_3块体电导率和塞贝克系数的测量 | 第43-44页 |
| ·Bi_2Te_3块体热电优值的测量 | 第44-45页 |
| ·纳米Bi_2Te_3的力学性能分析 | 第45-48页 |
| ·维氏硬度测试法 | 第45-46页 |
| ·样品硬度测试 | 第46-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第六章 结论与展望 | 第49-51页 |
| ·结论 | 第49页 |
| ·展望 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
| 致谢 | 第55-57页 |
| 个人简介 | 第57页 |
