目录 | 第1-7页 |
摘要 | 第7-8页 |
Abstract | 第8-10页 |
第1章 文献综述 | 第10-27页 |
·引言 | 第10-11页 |
·Ni/MH电池的原理 | 第11-12页 |
·Ni/MH电池的发展现状 | 第12-13页 |
·钙钛矿型氧化物(ABO_3)电极 | 第13-16页 |
·钙钛矿型氧化物的基本结构 | 第13-15页 |
·钙钛矿型氧化物作为储氢及电极材料的研究现状 | 第15-16页 |
·钙钛矿型氧化物薄膜材料的研究现状 | 第16-20页 |
·钙钛矿型氧化物薄膜材料的应用现状 | 第16-18页 |
·薄膜材料的制备方法 | 第18-20页 |
·磁控溅射法制备AB03薄膜 | 第20-26页 |
·溅射镀膜机理 | 第20-21页 |
·辉光放电 | 第21页 |
·溅射率 | 第21-22页 |
·溅射机理 | 第22-23页 |
·射频磁控溅射的镀膜机理 | 第23-25页 |
·磁控溅射的特点 | 第25-26页 |
·本实验的研究思路和研究内容 | 第26-27页 |
第2章 实验方法 | 第27-33页 |
·磁控溅射设备及系统简介 | 第27-28页 |
·原材料 | 第28页 |
·LaM(Fe、Ni)O_3薄膜的生长工艺 | 第28-31页 |
·实验流程 | 第28-29页 |
·实验条件的设计 | 第29-30页 |
·薄膜样品的相结构、微观形貌和成分分析 | 第30-31页 |
·薄膜样品的电阻率测试 | 第31页 |
·薄膜样品的电化学测试 | 第31-33页 |
·电极的制备 | 第31页 |
·电化学测试装置及其测试方法 | 第31-33页 |
第3章 LaNiO_3薄膜的制备及其特性研究 | 第33-46页 |
·热处理对LaNiO_3薄膜相结构的影响 | 第33-36页 |
·退火温度对相结构的影响 | 第33-35页 |
·退火气氛对LaNiO_3薄膜相结构的影响 | 第35-36页 |
·电阻率的变化 | 第36-38页 |
·退火温度对的电阻率的影响 | 第36页 |
·不同厚度对薄膜电阻率的影响分析 | 第36-38页 |
·不同气氛对薄膜电阻率的影响 | 第38页 |
·LaNiO_3薄膜的形貌及成分分析 | 第38-42页 |
·退火温度对LaNiO_3薄膜表面形貌和成分影响 | 第38-42页 |
·不同气氛下退火的表面形貌和成分分析 | 第42页 |
·LaNiO_3薄膜电极的充放电特性 | 第42-44页 |
·本章小结 | 第44-46页 |
第4章 LaFeO_3薄膜的制备及电化学性能的初步研究 | 第46-54页 |
·LaFe03薄膜的相结构 | 第46-49页 |
·不同退火温度下相结构的分析 | 第46-47页 |
·不同退火时间下相结构分析 | 第47-49页 |
·LaFeO_3薄膜的微观形貌和成分分析 | 第49-51页 |
·不同退火温度的微观形貌与成分分析 | 第49-50页 |
·不同退火时间的微观形貌与成分分析 | 第50-51页 |
·LaFeO_3薄膜电极的电化学性能 | 第51-52页 |
·本章小结 | 第52-54页 |
总结 | 第54-56页 |
参考文献 | 第56-62页 |
致谢 | 第62-63页 |
附录A 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第63页 |