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纳米工艺下低压低功耗带隙基准源的研究

摘要第1-6页
ABSTRACT第6-11页
第一章 绪论第11-14页
   ·研究背景和意义第11-12页
   ·国内外发展现状第12-13页
   ·本论文的组织结构第13-14页
第二章 带隙基准源概述第14-29页
   ·带隙基准源的主要性能指标第14-17页
     ·温度系数第15-16页
     ·电源抑制比第16页
     ·噪声第16-17页
     ·电源电压第17页
   ·纳米工艺下带隙基准设计所面临的挑战第17-28页
     ·电源电压的变化第18页
     ·工艺的变化第18页
     ·低电源电压设计第18-28页
       ·基于 BJT 器件的典型低压基准源电路第19-21页
       ·基于 MOS 器件的典型低压基准源电路第21-28页
   ·本章小结第28-29页
第三章 基于 MOS 器件二阶温度补偿的基准源原理分析第29-40页
   ·MOSFET 的亚阈值特性第29-35页
     ·MOSFET 的结构第29-30页
     ·MOSFET 阈值电压的温度特性第30-33页
     ·MOSFET 亚阈值状态电流-电压特性第33-35页
   ·二阶温度补偿基准源原理第35-39页
     ·基于 MOSFET 器件的 PTAT 电流源第35-38页
     ·基于 MOSFET 器件的 CTAT 电流源第38-39页
   ·本章小结第39-40页
第四章 基准源电路设计与仿真第40-51页
   ·低压低功耗基准整体结构第40-48页
     ·PTAT 电流源电路第41-43页
     ·CTAT 电流源电路第43-45页
     ·CTAT 电流修调电路第45-46页
     ·低压低功耗基准整体电路第46-47页
     ·负载电阻修调电路第47-48页
   ·电路仿真结果第48-50页
     ·温度系数仿真第48-49页
     ·电源抑制比仿真第49-50页
     ·功耗仿真第50页
     ·仿真结果总结第50页
   ·本章小结第50-51页
第五章 版图设计和测试第51-61页
   ·基准源电路的版图设计第51-55页
     ·深亚微米工艺下制造工艺的影响第51-53页
     ·深亚微米工艺下版图的设计第53-54页
     ·基准源版图的设计第54-55页
   ·基准源电路的测试第55-60页
     ·负载修调电路测试第56-57页
     ·电源抑制比测试第57-58页
     ·功耗测试第58页
     ·启动时间测试第58-59页
     ·温度系数测试第59-60页
   ·本章小结第60-61页
第六章 结论第61-63页
   ·工作内容总结第61-62页
   ·工作展望第62-63页
致谢第63-64页
参考文献第64-67页
攻硕期间取得的研究成果第67-68页

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