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切割单晶及多晶硅片表面层损伤研究

摘要第1-5页
Abstract第5-9页
1 绪论第9-24页
   ·硅晶体的物理特性与应用第9-15页
     ·单晶硅的物理特性与应用第9-13页
     ·多晶硅的物理特性与应用第13-15页
   ·硅片切割技术概述第15-19页
   ·线切割硅片加工损伤及其检测方法第19-22页
     ·亚表面损伤存在的形式第19-20页
     ·表面损伤检测技术概述第20-22页
   ·本课题的来源与研究内容第22-24页
2 线切割硅片表面层损伤检测方法第24-34页
   ·表面粗糙度检测试验方案第24-25页
   ·表面形貌检测试验方案第25页
   ·表面损伤检测方案第25-28页
     ·截面显微观测法第26-27页
     ·角度截面显微观测法第27-28页
   ·表面损伤检测试样制备过程第28-32页
     ·切片第28-30页
     ·粘片第30页
     ·研磨第30-31页
     ·抛光第31页
     ·腐蚀第31-32页
     ·观察与测量第32页
   ·本章小结第32-34页
3 单晶硅表面层损伤结果检测与分析第34-50页
   ·表面形貌第34-35页
   ·表面粗糙度第35-37页
   ·亚表面损伤第37-48页
     ·硅片的损伤深度及微裂纹深度第37-42页
     ·微裂纹密度分布研究第42-44页
     ·微裂纹形状密度研究第44-48页
   ·不同切割方法切割硅片亚表面损伤对比分析第48页
   ·本章小结第48-50页
4 多晶硅表面层损伤结果检测与分析第50-55页
   ·表面形貌第50页
   ·表面损伤第50-54页
     ·LAS-PW的损伤深度及微裂纹深度分析第50-52页
     ·LAS-PW的微裂纹密度分布研究第52-53页
     ·LAS-PW的微裂纹形状密度研究第53-54页
   ·本章小结第54-55页
结论第55-56页
参考文献第56-58页
致谢第58-59页

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