Ni-W-P合金镀层化学发黑工艺、发黑机理及发黑膜性能研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-24页 |
| ·金属表面着黑色研究概述 | 第11-20页 |
| ·黑色膜层研究现状 | 第12-15页 |
| ·膜层着黑色机理 | 第15-17页 |
| ·发黑存在问题及发展方向 | 第17-20页 |
| ·Ni-W-P 合金镀层概述 | 第20-23页 |
| ·Ni-W-P 合金结构 | 第21-22页 |
| ·电沉积钨合金的性能 | 第22-23页 |
| ·论文构思 | 第23-24页 |
| 第2章 Ni-W-P 发黑工艺及发黑膜性能研究 | 第24-33页 |
| ·前言 | 第24-25页 |
| ·实验部分 | 第25-26页 |
| ·仪器与试剂 | 第25页 |
| ·实验方法 | 第25-26页 |
| ·结果与讨论 | 第26-32页 |
| ·发黑工艺参数对发黑效果的影响 | 第26-27页 |
| ·发黑膜性能测试 | 第27-30页 |
| ·发黑膜结构及组成分析 | 第30-32页 |
| ·小结 | 第32-33页 |
| 第3章 Ni-W-P 合金发黑机理研究 | 第33-49页 |
| ·前言 | 第33页 |
| ·实验部分 | 第33-35页 |
| ·仪器与试剂 | 第33页 |
| ·发黑膜制备 | 第33-35页 |
| ·结果与讨论 | 第35-47页 |
| ·不同 W 含量镀层的发黑效果 | 第35页 |
| ·发黑膜的光学性质和耐蚀性测试 | 第35-37页 |
| ·不同 W 含量镀层的结构、微观形貌及组分 | 第37-44页 |
| ·不同 W 含量镀层发黑后得到不同的发黑效果机理 | 第44-46页 |
| ·不同 W 含量镀层发黑后膜层对镀层耐蚀性影响 | 第46-47页 |
| ·小结 | 第47-49页 |
| 第4章 Ni-W-P 发黑新工艺 | 第49-56页 |
| ·前言 | 第49页 |
| ·实验部分 | 第49-50页 |
| ·实验仪器与试剂 | 第49-50页 |
| ·实验方法 | 第50页 |
| ·结果与讨论 | 第50-55页 |
| ·发黑工艺影响因素 | 第50-51页 |
| ·镀层发黑后的微观形貌及组分 | 第51-52页 |
| ·钨合金在不同体系中发黑后，发黑膜的性能对比 | 第52-55页 |
| ·发黑机理研究 | 第55页 |
| ·小结 | 第55-56页 |
| 结论 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-67页 |
| 附录 A 本文作者相关论文题录 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
