| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-14页 |
| ·垂直腔面发射激光器的发展状况 | 第7-8页 |
| ·垂直腔面发射激光器的结构特点 | 第8-10页 |
| ·垂直腔面发射激光器的光电限制结构 | 第10-11页 |
| ·垂直腔面发射激光器的应用 | 第11-13页 |
| ·本论文主要研究工作 | 第13-14页 |
| 第二章 垂直腔面发射激光器的结构和相关理论 | 第14-22页 |
| ·VCSEL的基本结构 | 第14页 |
| ·氧化物限制型VCSEL的优势 | 第14-15页 |
| ·VCSEL的基本理论 | 第15-17页 |
| ·氧化层的优化设计 | 第17-18页 |
| ·外延片的结构和测试 | 第18-21页 |
| ·本章小结 | 第21-22页 |
| 第三章 垂直腔面发射激光器湿法氧化工艺 | 第22-42页 |
| ·湿法氧化前的工艺 | 第22-29页 |
| ·湿法氧化工艺 | 第29-38页 |
| ·器件的制作 | 第38-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 垂直腔面发射激光器的测试 | 第42-47页 |
| ·器件的光电特性测试 | 第42-44页 |
| ·器件的温度特性测试 | 第44-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 结论 | 第47-48页 |
| 致谢 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-50页 |