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相变存储材料Ge2Sb2Te5的电子显微学研究及非晶结构解析

摘要第1-6页
Abstract第6-10页
第1章 绪论第10-36页
   ·引言第10-11页
   ·存储器的种类及其发展第11-14页
     ·三类存储器第11-13页
     ·相变存储器第13-14页
   ·相变存储材料第14-16页
     ·相变材料的种类第14-15页
     ·GeSbTe体系的相变材料第15-16页
   ·非晶材料及其结构第16-24页
     ·非晶材料的发展及其特性第17-20页
     ·非晶体的结构及结构模型第20-24页
   ·GeSbTe体系的晶体/非晶结构第24-33页
     ·GeSbTe体系亚稳相的结构第24-26页
     ·GeSbTe体系的非晶结构及相变机制第26-33页
   ·本课题的研究目的和研究内容第33-36页
第2章 实验原理及方法第36-50页
   ·引言第36-37页
   ·透射电子显微镜的基本结构第37-40页
   ·透射电子显微学的主要技术方法及其基本原理第40-46页
     ·选区电子衍射第40页
     ·振幅衬度成像和(高分辨)相位衬度成像第40-42页
     ·X射线能量色散谱第42-43页
     ·电子能量损失谱第43-45页
     ·透射电镜设备第45-46页
   ·磁控溅射法制备非晶态相变材料以及透射电镜样品制备第46-50页
     ·磁控溅射第46-48页
     ·激光打点设备及光路图第48页
     ·TEM样品制备第48-50页
第3章 径向分布函数方法和逆蒙特卡洛方法研究第50-74页
   ·引言第50页
   ·非晶结构研究技术第50-56页
   ·电子衍射径向分布函数方法研究第56-69页
     ·RDF函数形式及截止效应的消除第56-57页
     ·SAED数据采集和处理第57-58页
     ·电子的散射因子第58页
     ·F(s)和i(s)的计算方法第58-60页
     ·衍射强度I(s)的背底扣除第60-62页
     ·方法验证—多晶金的RDF第62-63页
     ·物理意义第63-64页
     ·RDF方法可靠性研究第64-68页
     ·RDF程序第68-69页
   ·逆蒙特卡洛方法研究第69-72页
     ·RMC简介第69页
     ·RMC基本算法第69-71页
     ·RMC约束方法第71-72页
   ·本章小结第72-74页
第4章 磁控溅射GST表征和激光淬火GST制备方法研究第74-90页
   ·引言第74页
   ·磁控溅射功率对GST薄膜的影响第74-78页
   ·磁控溅射GST薄膜的原位退火研究第78-83页
   ·激光淬火非晶样品的制备第83-89页
   ·本章小结第89-90页
第5章 沉积态非晶Ge_2Sb_2Te_5结构解析第90-102页
   ·引言第90-91页
   ·多组Sa GST的i(s)和RDF数据比较第91-92页
   ·实验方法及数据处理第92页
   ·基本结构信息第92-93页
   ·局域原子构型和原子团簇研究第93-96页
     ·错键(Wrong bond)第93-94页
     ·局域原子构型(local motif)和原子团簇(cluster)第94-96页
   ·非晶结构模型中空穴及其分布研究第96-99页
     ·空穴的计算方法第96-97页
     ·空穴的分布及体积分数第97-99页
   ·局域序参数q第99-100页
   ·本章小结第100-102页
第6章 激光淬火非晶Ge_2Sb_2Te_5结构解析第102-114页
   ·引言第102-103页
   ·La GST与Sa GST结构异同的RDF比较第103-104页
   ·La GST的结构及与Sa GST结构的差异第104-112页
     ·RMC模拟参数及基本结构信息第105-107页
     ·键长变化及Ge/SbTe键比例增加第107-109页
     ·局域原子构型的变化第109-110页
     ·原子团簇第110-111页
     ·空位尺寸减小及总体积分数减小第111-112页
   ·本章小结第112-114页
结论第114-118页
参考文献第118-128页
攻读博士学位期间取得的研究成果第128-130页
致谢第130-131页

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