基于MEMS技术的SnO2氢传感器的制作与电路设计
| 中文摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-20页 |
| ·课题背景与研究意义 | 第8页 |
| ·气敏传感器的概述 | 第8-12页 |
| ·气敏传感器的工作原理 | 第9-10页 |
| ·气敏传感器的分类 | 第10-11页 |
| ·气敏传感器的应用特点 | 第11-12页 |
| ·MEMS技术简介 | 第12-13页 |
| ·氢敏传感器的分类及研究现状 | 第13-17页 |
| ·半导体型氢敏传感器 | 第14-15页 |
| ·热电型传感器 | 第15-16页 |
| ·光纤传感器 | 第16-17页 |
| ·SnO_2薄膜型氢敏传感器的发展趋势 | 第17-18页 |
| ·本课题主要研究内容 | 第18-19页 |
| ·本章小节 | 第19-20页 |
| 第2章 SnO_2薄膜的制备方法 | 第20-27页 |
| ·薄膜理论 | 第20页 |
| ·常见SnO_2薄膜的制备方法 | 第20-25页 |
| ·溶胶-凝胶法(Sol-Gel) | 第21-22页 |
| ·化学气相沉积(CVD) | 第22-23页 |
| ·磁控溅射法 | 第23-24页 |
| ·化学还原法 | 第24-25页 |
| ·阳极氧化法 | 第25页 |
| ·薄膜制备的特点 | 第25-26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 第3章 SnO_2氢气传感器的制备 | 第27-39页 |
| ·SnO_2氢气传感器的结构设计 | 第27-29页 |
| ·SnO_2氢气传感器的工作原理 | 第29-31页 |
| ·SnO_2氢气传感器的制备 | 第31-38页 |
| ·U型硅杯制备 | 第31-32页 |
| ·PN结衬底的制备 | 第32-35页 |
| ·叉指铂电极的制备 | 第35-36页 |
| ·加热铂电极的制备 | 第36-37页 |
| ·SnO_2纳米薄膜的制备 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第4章 传感器检测电路的设计与实现 | 第39-52页 |
| ·检测电路的硬件设计 | 第39-48页 |
| ·恒流源电路 | 第40-41页 |
| ·差分放大电路 | 第41-43页 |
| ·模/数转换电路 | 第43-45页 |
| ·显示驱动电路 | 第45-46页 |
| ·版图绘制与焊接 | 第46-48页 |
| ·检测电路的软件编程 | 第48-49页 |
| ·主程序设计 | 第48页 |
| ·模/数转换程序设计 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-52页 |
| 第5章 SnO_2氢气传感器的测试与分析 | 第52-64页 |
| ·气体传感器的主要参数 | 第52-54页 |
| ·SnO_2薄膜相结构的表征与分析 | 第54-58页 |
| ·SnO_2薄膜的AFM分析 | 第54-57页 |
| ·SnO_2薄膜的XRD分析 | 第57-58页 |
| ·SnO_2敏感膜的特性分析 | 第58-63页 |
| ·掺杂种类对SnO_2薄膜特性的影响 | 第58页 |
| ·退火温度对SnO_2薄膜特性的影响 | 第58-59页 |
| ·SnO_2薄膜的气体选择性测试 | 第59-60页 |
| ·SnO_2薄膜的重复性测试 | 第60-61页 |
| ·SnO_2薄膜的灵敏度测试 | 第61-62页 |
| ·SnO_2薄膜的响应和恢复时间测试 | 第62-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 结论 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-71页 |
| 附录 | 第71-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第75页 |
