| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-25页 |
| ·前言 | 第9-10页 |
| ·C/C复合材料的涂层防护 | 第10-13页 |
| ·防护涂层的研究进展 | 第11页 |
| ·防护涂层应具备的基本功能 | 第11-13页 |
| ·涂层改性方法 | 第13页 |
| ·SiC涂层材料 | 第13-17页 |
| ·SiC的晶体结构与物理特性 | 第13-15页 |
| ·SiC的氧化与热震 | 第15-17页 |
| ·SiC涂层的制备方法 | 第17页 |
| ·SiCw | 第17-22页 |
| ·SiCw的生长机制 | 第17-19页 |
| ·SiCw的强韧化机制 | 第19-22页 |
| ·研究目的与研究内容 | 第22-25页 |
| ·研究目的 | 第22-23页 |
| ·研究内容 | 第23-25页 |
| 第二章 实验方法 | 第25-31页 |
| ·前言 | 第25页 |
| ·实验原材料 | 第25-27页 |
| ·C/C复合材料基体的预处理 | 第25页 |
| ·C/C复合材料基体加载催化剂 | 第25-26页 |
| ·制备SiCw涂层及SiC涂层的原材料 | 第26页 |
| ·MTS流量的控制 | 第26-27页 |
| ·实验设备 | 第27-28页 |
| ·制备方法 | 第28-29页 |
| ·CVD法制备SiCw涂层 | 第28-29页 |
| ·CVD法制备SiC涂层 | 第29页 |
| ·表征 | 第29页 |
| ·增重率的表征 | 第29页 |
| ·SiCw涂层和SiCw/SiC涂层的表征 | 第29页 |
| ·涂层的性能测试 | 第29-31页 |
| ·涂层力学性能实验 | 第29-30页 |
| ·抗氧化实验 | 第30-31页 |
| 第三章 SiCw涂层的制备 | 第31-40页 |
| ·前言 | 第31页 |
| ·SiCw涂层制备的工艺参数设置 | 第31-32页 |
| ·Fe、Co、Ni盐的影响 | 第32-33页 |
| ·Ni盐加载量的影响 | 第33-35页 |
| ·Ni盐催化随沉积温度的影响 | 第35-37页 |
| ·Ni盐催化随α=Q_(H_2)/Q_(MTS)值的影响 | 第37-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第四章 SiCw/SiC涂层的制备与表征 | 第40-49页 |
| ·前言 | 第40页 |
| ·SiCw/SiC涂层制备 | 第40页 |
| ·涂层的形貌及物相 | 第40-43页 |
| ·SiCw/SiC涂层后催化剂的分布状态 | 第43-44页 |
| ·涂层截面的力学性能 | 第44-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第五章 C/C复合材料密度对SiCw/SiC涂层制备的影响 | 第49-61页 |
| ·前言 | 第49页 |
| ·低密度C/C复合材料(1.2±0.1g/cm~3)沉积SiCw/SiC涂层及在1200℃下氧化 | 第49-53页 |
| ·低密度C/C复合材料沉积SiCw/SiC涂层 | 第49-51页 |
| ·SiCw/SiC涂层在1200℃下的氧化 | 第51-53页 |
| ·高、低密度的C/C复合材料沉积SiCw/SiC涂层及在1500℃下氧化 | 第53-60页 |
| ·C/C复合材料加载催化剂前后的比表面及孔径分布 | 第53-56页 |
| ·不同基体密度对SiCw/SiC涂层沉积的影响 | 第56-58页 |
| ·SiCw/SiC涂层在1500℃下的氧化 | 第58-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 第六章 结论及展望 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第73页 |
