| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-14页 |
| 第1章 绪论 | 第14-35页 |
| ·含铋化合物的特点 | 第14-16页 |
| ·二元复合钨酸盐晶体KBI(WO_4)_2 | 第16-19页 |
| ·钨酸盐及其应用 | 第16-18页 |
| ·二元钨酸盐晶体 | 第18页 |
| ·KBW 文献综述 | 第18-19页 |
| ·无铅压电晶体Na_(1-x)KxBi(TiO_3)_2 | 第19-29页 |
| ·压电材料的历史及应用 | 第19-21页 |
| ·无铅压电材料研究及意义 | 第21-22页 |
| ·钙钛矿结构和Smolenskii 规则 | 第22-24页 |
| ·NBT 基无铅压电材料 | 第24-28页 |
| ·NKBT 体系国内外研究历史与现状 | 第28-29页 |
| ·铋层状铁电材料Bi_2WO_6 和Γ-Bi_2Mo0_6 | 第29-33页 |
| ·铋层状结构铁电化合物 | 第29-31页 |
| ·BWO 和γ-BMO 的性能与制备 | 第31-32页 |
| ·MH 法合成纳米粒子 | 第32-33页 |
| ·本论文的研究内容和意义 | 第33-35页 |
| ·KBW 晶体生长与性质研究 | 第33页 |
| ·NKBT 晶体生长与性质研究 | 第33-34页 |
| ·MH 法合成BWO 和γ-BMO 纳米晶 | 第34-35页 |
| 第2章 KBI(WO_4)_2晶体的生长与性质研究 | 第35-83页 |
| ·KBW 晶体的生长 | 第35-44页 |
| ·晶体生长方法的选择 | 第35-38页 |
| ·晶体生长装置 | 第38-39页 |
| ·以K_2W_2O_7 为助熔剂晶体生长过程 | 第39-40页 |
| ·以K_2WO_4 为助熔剂晶体生长过程 | 第40-44页 |
| ·晶体结构 | 第44-51页 |
| ·单晶结构解析 | 第44-49页 |
| ·多晶XRD 的Rietveld 拟合 | 第49-51页 |
| ·宏观结晶形貌和生长缺陷 | 第51-62页 |
| ·宏观结晶形貌 | 第51-53页 |
| ·宏观生长缺陷 | 第53-58页 |
| ·影响晶体生长的因素 | 第58-62页 |
| ·晶体的性质分析 | 第62-73页 |
| ·差热分析 | 第62-63页 |
| ·组分分析 | 第63页 |
| ·密度与硬度 | 第63-64页 |
| ·化学腐蚀 | 第64-65页 |
| ·透过率 | 第65-66页 |
| ·荧光光谱 | 第66-67页 |
| ·热膨胀系数 | 第67-69页 |
| ·热容 | 第69-70页 |
| ·腐蚀 | 第70-71页 |
| ·粉末FT-IR 和FT-Raman | 第71-73页 |
| ·掺ND~(3+)和CR~3+)的KBW 晶体生长 | 第73-81页 |
| ·引言 | 第73-75页 |
| ·实验部分 | 第75-76页 |
| ·掺杂分凝效应 | 第76-77页 |
| ·性能测试 | 第77-81页 |
| ·本章小结 | 第81-83页 |
| 第3章 无铅压电晶体NA_(1-x)K_xBi(TiO_3)_2的生长与性质研究 | 第83-110页 |
| ·NKBT 体系相界研究 | 第83-87页 |
| ·引言 | 第83-84页 |
| ·NKBT 体系XRD 分析 | 第84-86页 |
| ·NKBT 体系Raman 谱图 | 第86-87页 |
| ·NKBT 体系分凝效应 | 第87-94页 |
| ·晶体生长中的分凝理论 | 第87-89页 |
| ·NBT 和KBT 差热分析 | 第89-90页 |
| ·实验部分 | 第90-91页 |
| ·结果与讨论 | 第91-94页 |
| ·熔体法生长NKBT 单晶 | 第94-99页 |
| ·熔体法晶体生长实验 | 第95-97页 |
| ·性能测试 | 第97-98页 |
| ·坩埚腐蚀问题 | 第98-99页 |
| ·熔体法生长的缺点 | 第99页 |
| ·助熔剂法生长NKBT 单晶 | 第99-108页 |
| ·助熔剂的选择 | 第100-103页 |
| ·寻找助熔剂的实验方法和结果 | 第103-106页 |
| ·助熔剂法晶体生长实验 | 第106-107页 |
| ·助熔剂法生长NKBT 晶体存在问题 | 第107-108页 |
| ·本章小结 | 第108-110页 |
| 第4章 微波水热法合成Bi_2WO_6和 γ-Bi2MoO_6纳米晶 | 第110-131页 |
| ·BWO 纳米晶的MH 法合成及其光催化性能研究 | 第110-121页 |
| ·实验方法和仪器 | 第110-111页 |
| ·合成条件研究 | 第111-116页 |
| ·MH、CH 和SSR 制备方法的比较 | 第116-119页 |
| ·TG/DTA 和FT-IR 谱图 | 第119-120页 |
| ·光降解MB 活性 | 第120-121页 |
| ·Γ-BMO 纳米晶的MH 法合成及其光催化性能研究 | 第121-129页 |
| ·实验方法和仪器 | 第121-122页 |
| ·合成条件研究 | 第122-127页 |
| ·MH、CH 和SSR 制备方法的比较 | 第127-128页 |
| ·光降解MB 活性 | 第128-129页 |
| ·本章小结 | 第129-131页 |
| 第5章 CsLiB_6O_(10)晶体的离子束刻蚀研究 晶体的离子束刻蚀研究 | 第131-139页 |
| ·引言 | 第131-132页 |
| ·实验结果和分析 | 第132-137页 |
| ·CLBO 的IBE 条件 | 第132-133页 |
| ·CLBO 的AFM 分析 | 第133-136页 |
| ·CLBO 的Raman 散射谱图 | 第136-137页 |
| ·讨论 | 第137-139页 |
| 第6章 结论 | 第139-142页 |
| ·研究总结 | 第139-140页 |
| ·需进一步开展的工作 | 第140-142页 |
| 参考文献 | 第142-155页 |
| 致谢 | 第155-156页 |
| 附录A 图表索引 | 第156-160页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第160页 |
