| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-12页 |
| §1.1 薄膜光学的发展 | 第7-8页 |
| §1.2 高功率半导体激光器腔面薄膜的发展 | 第8-9页 |
| §1.3 论文研究目的及内容 | 第9-12页 |
| 第二章 薄膜光学理论 | 第12-23页 |
| §2.1 薄膜光学的电磁理论基础 | 第12-16页 |
| §2.2 光学薄膜的光学特性计算方法 | 第16-23页 |
| 第三章 高功率半导体激光器腔面膜的设计 | 第23-37页 |
| §3.1 薄膜材料的选择 | 第23-30页 |
| §3.2 腔面膜的设计 | 第30-37页 |
| 第四章 薄膜的制备 | 第37-49页 |
| §4.1 薄膜的制备装置及其工作原理 | 第37-41页 |
| §4.2 薄膜的制备工艺 | 第41-47页 |
| §4.3 实验结果 | 第47-49页 |
| 第五章 薄膜的测试及分析 | 第49-54页 |
| §5.1 高反射膜系中SI膜的测试及其分析 | 第49-51页 |
| §5.2 高反射膜的附着力和致密性测试及分析 | 第51-52页 |
| §5.3 在激光器上的应用测试及其分析 | 第52-54页 |
| 结论 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-57页 |