| 中文摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-25页 |
| ·四硫富瓦烯衍生物的性质 | 第9-10页 |
| ·四硫富瓦烯衍生物在金电极表面的修饰及其性质 | 第10-11页 |
| ·四硫富瓦烯衍生物用于离子的识别和氧化还原-荧光开关 | 第11-14页 |
| ·含吡啶基团四硫富瓦烯衍生物的种类及研究现状 | 第14-20页 |
| ·本论文研究的主要内容及意义 | 第20-22页 |
| 参考文献 | 第22-25页 |
| 第二章 含吡啶基团四硫富瓦烯衍生物的加质子 | 第25-34页 |
| ·前言 | 第25页 |
| ·实验部分 | 第25-28页 |
| ·试剂及仪器 | 第25-26页 |
| ·合成部分 | 第26-28页 |
| ·晶体结构测定 | 第28页 |
| ·结果与讨论 | 第28-32页 |
| ·在甲基苯磺酸中DMT-TTF-py 的电化学响应 | 第28-29页 |
| ·在甲基苯磺酸中DMT-TTF-py 的的紫外-可见光谱 | 第29-30页 |
| ·化合物DMT-TTF-py HNO_3的晶体结构讨论 | 第30-32页 |
| ·结论 | 第32-33页 |
| 参考文献 | 第33-34页 |
| 第三章 含吡啶基团四硫富瓦烯衍生物的合成及性质 | 第34-52页 |
| ·前言 | 第34页 |
| ·实验部分 | 第34-36页 |
| ·试剂及仪器 | 第34-35页 |
| ·配合物的制备 | 第35-36页 |
| ·化合物1-4 的晶体结构测试 | 第36页 |
| ·结果与讨论 | 第36-49页 |
| ·晶体结构 | 第36-45页 |
| ·配合物的电化学测定 | 第45-46页 |
| ·紫外-可见光谱 | 第46-49页 |
| ·结论 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-52页 |
| 第四章 M-TTF-四硫醇在金电极上的多层自组装 | 第52-60页 |
| ·前言 | 第52页 |
| ·实验部分 | 第52-53页 |
| ·试剂及仪器 | 第52页 |
| ·金电极上四硫富瓦烯硫醇盐的多层组装 | 第52-53页 |
| ·结果与讨论 | 第53-56页 |
| ·修饰层结构 | 第53页 |
| ·扫描电镜 | 第53-54页 |
| ·电化学性质 | 第54-56页 |
| ·紫外-可见光谱 | 第56页 |
| ·结论 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-60页 |
| 第五章 全文总结 | 第60-62页 |
| ·本论文的总结 | 第60页 |
| ·对未来工作的设想 | 第60-62页 |
| 攻读学位期间撰写的学术论文 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 详细摘要 | 第64-67页 |
