| 第一章 绪论 | 第1-35页 |
| ·磁学和磁性材料简述 | 第10-18页 |
| ·磁性材料宏观行为的能量表述 | 第10-12页 |
| ·磁畴、矫顽力及磁滞现象 | 第12-13页 |
| ·晶粒尺寸效应和有效各向异性 | 第13-14页 |
| ·应力、磁致伸缩与磁弹性各向异性 | 第14-16页 |
| ·软磁材料的复数磁导率及其频率响应 | 第16-18页 |
| ·磁记录简述 | 第18-26页 |
| ·薄膜感应磁头 | 第18-23页 |
| ·磁记录的写过程 | 第23-25页 |
| ·磁记录写头发展遇到的挑战 | 第25-26页 |
| ·写磁头材料的发展及现状 | 第26-29页 |
| ·磁记录写头材料的基本要求 | 第26-27页 |
| ·写磁头材料的发展和现状 | 第27-29页 |
| ·块状Fe-Co合金的性质 | 第29-32页 |
| 参考文献 | 第32-35页 |
| 第二章 薄膜的制备及其性能的表征 | 第35-54页 |
| ·薄膜的制备 | 第35-39页 |
| ·制备方法 | 第35-39页 |
| ·基片的选择与清洗 | 第39页 |
| ·溅射用靶 | 第39页 |
| ·薄膜性能的表征 | 第39-52页 |
| ·薄膜膜厚的测定 | 第39-41页 |
| ·薄膜磁性能的测定 | 第41-42页 |
| ·高频特性测量 | 第42页 |
| ·薄膜磁致伸缩测量 | 第42-43页 |
| ·薄膜应力测量 | 第43-44页 |
| ·薄膜晶体结构的分析 | 第44-47页 |
| ·薄膜成分的分析 | 第47-48页 |
| ·薄膜表面形貌的观察 | 第48页 |
| ·表面畴结构观察 | 第48-50页 |
| ·透射电镜(TEM) | 第50页 |
| ·X光光电子能谱仪(XPS) | 第50-51页 |
| ·薄膜电阻率的测定 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-54页 |
| 第三章 FeCo薄膜的结构和磁性 | 第54-104页 |
| ·平面磁控溅射制备的FeCo薄膜的结构和磁性 | 第54-74页 |
| ·成分和稳定对FeCo合金单层薄膜的结构和磁性的影响 | 第54-56页 |
| ·Fe_(65)Co_(35)／Ni_(79)Fe_(21)薄膜的结构和磁性能 | 第56-62页 |
| ·Fe_(65)Co_(35)／Co_(100-y)Fe_y(0≤y≤11)薄膜的结构和磁性 | 第62-66页 |
| ·Cu、Fe衬底对薄膜的影响及与Co_(93)Fe_7、Ni_(79)Fe_(21)衬底的比较 | 第66-74页 |
| ·对向靶溅射制备的FeCo薄膜的结构和磁性 | 第74-95页 |
| ·对向靶溅射的FeCo单层薄膜的结构和磁性 | 第74-79页 |
| ·对向靶溅射的Fe_(65)Co_(35)／Co薄膜的结构和磁性 | 第79-95页 |
| ·Fe_(65)Co_(35)／Co薄膜的软磁性起源 | 第95-98页 |
| ·Fe_(65)Co_(35)薄膜的织构演化和晶粒细化机制 | 第98-102页 |
| 参考文献 | 第102-104页 |
| 第四章 Fe_(65)Co_(35)／Co薄膜的感生各向异性 | 第104-112页 |
| ·由靶-基片距离引起的磁各向异性 | 第105-108页 |
| ·应力感生的磁各向异性 | 第108-111页 |
| 参考文献 | 第111-112页 |
| 第五章 结论 | 第112-114页 |
| 博士期间发表文章 | 第114-115页 |
| 致谢 | 第115页 |
