| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-20页 |
| ·非线性光学效应及其应用 | 第9-10页 |
| ·非线性光学材料 | 第10-11页 |
| ·兼备大的二阶非线性系数与良好光学透明性的有机非线性光学材料的研究策略 | 第11-15页 |
| ·本文的研究内容 | 第15-16页 |
| 参考文献 | 第16-20页 |
| 第二章 L－苹果酸脲的制备及结构性质 | 第20-28页 |
| ·引言 | 第20-22页 |
| ·L－苹果酸脲的合成及表征 | 第22-24页 |
| ·L－苹果酸脲的晶体结构 | 第24-25页 |
| ·L－苹果酸脲的基本性质 | 第25-26页 |
| ·本章小结 | 第26页 |
| 参考文献 | 第26-28页 |
| 第三章 L-苹果酸脲的二阶非线性光学性质 | 第28-54页 |
| ·非线性极化过程的基础知识 | 第28-33页 |
| ·光学非线性的起源 | 第28-29页 |
| ·光学介质的非线性感应电极化效应 | 第29-30页 |
| ·非线性作用的耦合波方程 | 第30-32页 |
| ·二次谐波产生 | 第32-33页 |
| ·二阶非线性光学系数的测量方法 | 第33-37页 |
| ·ULMA 的二阶非线性光学性质 | 第37-43页 |
| ·ULMA 的粉末倍频研究 | 第37-38页 |
| ·ULMA 的宽带倍频研究 | 第38-41页 |
| ·ULMA 的HRS 研究初步 | 第41-43页 |
| ·ULMA 的相位匹配分析 | 第43-50页 |
| ·光学二次谐波的基本理论 | 第44-46页 |
| ·相位匹配 | 第46-48页 |
| ·ULMA 的相位匹配 | 第48-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-54页 |
| 第四章 应用手性分子的非线性极化模型分析L－苹果酸脲的二阶非线性光学性质 | 第54-79页 |
| ·引言 | 第54-55页 |
| ·手性分子的非线性极化模型 | 第55-60页 |
| ·螺旋单电子模型 | 第55-57页 |
| ·耦合双振子模型 | 第57-59页 |
| ·双各向异性基团分子模型 | 第59-60页 |
| ·应用螺旋单电子模型分析ULMA 的一阶超极化率 | 第60-76页 |
| ·一阶超极化率β | 第60-62页 |
| ·模型参数的确定 | 第62-65页 |
| ·ULMA 的一阶超极化率 | 第65-71页 |
| ·微观参数对一阶超极化率的影响 | 第71-76页 |
| ·本章小结 | 第76页 |
| 参考文献 | 第76-79页 |
| 第五章 L－苹果酸脲薄膜制备及性质研究 | 第79-103页 |
| ·引言 | 第79页 |
| ·晶体薄膜的制备方法 | 第79-80页 |
| ·薄膜的生长、结构与缺陷 | 第80-84页 |
| ·薄膜的生长 | 第80-82页 |
| ·薄膜的结构 | 第82页 |
| ·薄膜的缺陷 | 第82-83页 |
| ·影响薄膜成核和生长的因素 | 第83-84页 |
| ·ULMA 薄膜的制备及其性质 | 第84-92页 |
| ·ULMA 薄膜的制备 | 第84-85页 |
| ·ULMA 薄膜性质及其与ULMA 晶体性质的比较 | 第85-88页 |
| ·制备条件对ULMA 性质的影响 | 第88-92页 |
| ·热分析方法 | 第92-98页 |
| ·ULMA 薄膜形成机理分析 | 第98-101页 |
| ·本章小结 | 第101页 |
| 参考文献 | 第101-103页 |
| 第六章 总结与展望 | 第103-105页 |
| ·总结 | 第103页 |
| ·下一步工作的打算 | 第103-105页 |
| 致谢 | 第105-106页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文和取得的其他学术成果 | 第106页 |
