ZnO：Al薄膜光禁带的调控性研究
| 第一章 绪论 | 第1-23页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·ZnO 薄膜的基本性质及应用 | 第10-14页 |
| ·ZnO 薄膜的晶体结构 | 第11-12页 |
| ·ZnO 薄膜的性能及其应用 | 第12-14页 |
| ·ZnO:Al 薄膜的基本性质 | 第14-16页 |
| ·ZnO:Al 薄膜的组织结构 | 第14-15页 |
| ·ZnO:Al 薄膜的研究现状及发展趋势 | 第15-16页 |
| ·ZnO 薄膜中光吸收边移动的理论 | 第16-18页 |
| ·ZnO 和ZnO:Al 薄膜的制备方法 | 第18-21页 |
| ·磁控溅射法 | 第18-19页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第19页 |
| ·分子束外延法 | 第19-20页 |
| ·化学气相沉积法 | 第20-21页 |
| ·喷雾热分解法 | 第21页 |
| ·溶胶—凝胶法 | 第21页 |
| ·本论文的目的和意义 | 第21-23页 |
| 第二章 溶胶—凝胶成膜原理 | 第23-29页 |
| ·概述 | 第23页 |
| ·溶胶—凝胶技术的特点 | 第23-24页 |
| ·溶胶—凝胶法的工艺过程 | 第24-26页 |
| ·溶胶的制备和溶胶化学 | 第24-25页 |
| ·凝胶的原理 | 第25-26页 |
| ·煅烧和烧结 | 第26页 |
| ·溶胶—凝胶法制备薄膜的常用方法 | 第26-27页 |
| ·旋涂法 | 第26-27页 |
| ·浸涂提拉法 | 第27页 |
| ·影响因素 | 第27-29页 |
| ·水解度 | 第27-28页 |
| ·溶胶浓度 | 第28页 |
| ·温度 | 第28页 |
| ·催化剂 | 第28-29页 |
| 第三章 溶胶—凝胶旋涂法制备 ZnO:Al 薄膜 | 第29-40页 |
| ·试剂及仪器设备 | 第29-30页 |
| ·试剂的选用 | 第29-30页 |
| ·实验器材 | 第30页 |
| ·薄膜的制备过程 | 第30-33页 |
| ·基片的清洗 | 第31页 |
| ·溶胶溶液的配制 | 第31-32页 |
| ·旋涂法镀膜 | 第32页 |
| ·干燥和热处理 | 第32-33页 |
| ·ZnO:Al 薄膜的结构和性能测试 | 第33-35页 |
| ·X 射线衍射（XRD） | 第33-34页 |
| ·原子力显微镜（AFM） | 第34-35页 |
| ·薄膜的电学分析 | 第35-36页 |
| ·薄膜的光学性能分析 | 第36-39页 |
| ·透光与吸收率分析 | 第36-38页 |
| ·荧光分析 | 第38-39页 |
| ·薄膜紫外敏感性能的分析 | 第39-40页 |
| 第四章 ZnO:Al 薄膜的测试结果与分析 | 第40-47页 |
| ·ZnO:Al 薄膜的结构形貌分析 | 第40-42页 |
| ·结构性能 | 第40-42页 |
| ·表面形貌 | 第42页 |
| ·ZnO:Al 薄膜的电学性能 | 第42-44页 |
| ·ZnO:Al 薄膜光学性能的分析 | 第44-47页 |
| ·透射谱 | 第44-45页 |
| ·光致发光谱 | 第45-47页 |
| 第五章 ZnO:Al 基紫外探测器的初步研究 | 第47-58页 |
| ·引言 | 第47-49页 |
| ·光电导探测器的原理 | 第49-50页 |
| ·ZnO/ZnO:Al 基紫外探测器的制备 | 第50-51页 |
| ·ZnO 基紫外探测器的性能研究 | 第51-54页 |
| ·ZnO:Al 基紫外探测器的性能研究 | 第54-58页 |
| 第六章 结论 | 第58-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第65页 |
