Si基及ZnO纳米发光材料的若干探索
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-24页 |
| ·Si 基发光材料的研究现状 | 第8-17页 |
| ·Si 基发光材料的研究意义 | 第8-9页 |
| ·多孔硅材料的表面修饰 | 第9-15页 |
| ·表面氧化处理 | 第10页 |
| ·金属钝化多孔硅表面 | 第10-14页 |
| ·粒子辐照 | 第14-15页 |
| ·Si 量子点发光材料的研究现状 | 第15-17页 |
| ·多层膜结构热退火 | 第15-16页 |
| ·复合薄膜热退火 | 第16页 |
| ·单层量子点的生长 | 第16-17页 |
| ·ZnO 纳米颗粒的研究现状 | 第17-21页 |
| ·ZnO 纳米颗粒的研究意义 | 第17-18页 |
| ·ZnO 纳米颗粒的发光机制 | 第18-19页 |
| ·ZnO 纳米颗粒的制备方法 | 第19-21页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第19-20页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第20页 |
| ·有机金属化学气相沉积 | 第20-21页 |
| ·磁控溅射法 | 第21页 |
| ·本试验的实验思路及创新之处 | 第21-24页 |
| 第二章 试验原料和试验装置 | 第24-27页 |
| ·实验原料 | 第24页 |
| ·实验装置 | 第24-27页 |
| ·多孔硅电化学刻蚀装置 | 第24-25页 |
| ·溅射装置 | 第25页 |
| ·退火炉 | 第25-27页 |
| 第三章 Si 基发光材料的研究 | 第27-38页 |
| ·Si-Ti 钝化多孔硅 | 第27-31页 |
| ·样品的制备 | 第27页 |
| ·样品的表征 | 第27-28页 |
| ·光致发光性能测试 | 第27页 |
| ·表面键分析 | 第27-28页 |
| ·实验结果与讨论 | 第28-31页 |
| ·光致发光性能 | 第28-29页 |
| ·表面化学键分析 | 第29-31页 |
| ·非晶SiAl 合金薄膜的制备 | 第31-38页 |
| ·样品的制备 | 第31-32页 |
| ·样品的表征 | 第32-33页 |
| ·实验结果与讨论 | 第33-37页 |
| ·正常参数溅射 | 第33-34页 |
| ·低功率、高靶距溅射 | 第34-35页 |
| ·低功率、高靶距加反向偏压溅射 | 第35-36页 |
| ·高Si 含量溅射 | 第36-37页 |
| ·今后的研究方向 | 第37-38页 |
| 第四章合金氧化制备 ZnO 纳米颗粒 | 第38-48页 |
| ·热处理ZnAlO 薄膜制备ZnO 纳米颗粒 | 第38-43页 |
| ·样品的制备 | 第38-39页 |
| ·样品的表征 | 第39页 |
| ·光致发光性能测试 | 第39页 |
| ·成分分析 | 第39页 |
| ·结构分析 | 第39页 |
| ·实验结果与讨论 | 第39-43页 |
| ·ZnAl 合金氧化制备ZnO 纳米颗粒 | 第43-47页 |
| ·样品的制备 | 第43-44页 |
| ·样品的表征 | 第44页 |
| ·实验结果与讨论 | 第44-47页 |
| ·今后的研究方向 | 第47-48页 |
| 第五章 结论 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-56页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57页 |
