| 第一章 文献综述 | 第1-27页 |
| 1．1 常用的高分子阻垢剂 | 第10-18页 |
| 1．1．1 羧酸基聚合物 | 第10-12页 |
| 1．1．1．1 聚丙烯酸 | 第10页 |
| 1．1．1．2 聚马来酸(酐) | 第10-11页 |
| 1．1．1．3 丙烯酸共聚物 | 第11页 |
| 1．1．1．4 马来酸(酐)类共聚物 | 第11-12页 |
| 1．1．2 磺酸和磺酸盐类共聚物 | 第12-13页 |
| 1．1．3 磷酰基羧酸聚合物 | 第13-18页 |
| 1．2 绿色阻垢缓蚀剂 | 第18-24页 |
| 1．2．1 烷基环氧羧酸盐 | 第19页 |
| 1．2．2 聚环氧琥珀酸 | 第19-21页 |
| 1．2．3 聚天冬氨酸 | 第21-24页 |
| 1．3 展望 | 第24-25页 |
| 1．4 小结 | 第25-27页 |
| 第二章 磷酰化聚天冬氨酸的合成 | 第27-48页 |
| 2．1 主要仪器和原料 | 第27-28页 |
| 2．2 试验方法 | 第28-30页 |
| 2．2．1 合成方法 | 第28页 |
| 2．2．2 理化指标分析方法 | 第28-29页 |
| 2．2．3 性能评价方法 | 第29-30页 |
| 2．3 结果与讨论 | 第30-47页 |
| 2．3．1 含膦酸基聚天冬氨酸的合成 | 第30-39页 |
| 2．3．1．1 反应机理 | 第30-31页 |
| 2．3．1．2 反应产物的定性 | 第31-34页 |
| 2．3．1．3 冷相合成最佳工艺条件的确定 | 第34-37页 |
| 2．3．1．4 冷热相合成方法的对比 | 第37-39页 |
| 2．3．1．5 最终实验方案的确定 | 第39页 |
| 2．3．2 含膦酸基聚天冬氨酸单项性能评价 | 第39-43页 |
| 2．3．2．1 不同有效浓度下药剂的阻垢性能 | 第39-41页 |
| 2．3．2．2 在不同Ca~(2+)离子浓度水质中药剂的阻垢性能 | 第41-43页 |
| 2．3．3 含膦酸基聚天冬氨酸阻垢机理 | 第43-47页 |
| 2．3．3．1 扫描电镜观察CaCO_3晶体的晶格歪曲现象 | 第43-46页 |
| 2．3．3．2 含膦酸基聚天冬氨酸阻垢机理初探 | 第46-47页 |
| 2．4 小结 | 第47-48页 |
| 第三章 含膦酸基聚天冬氨酸与其他药剂的复配性能 | 第48-58页 |
| 3．1 含膦酸基聚天冬氨酸与共聚物阻垢分散剂复配使用的阻垢性能 | 第48-50页 |
| 3．2 含膦酸基聚天冬氨酸与常用有机膦酸类药剂复配使用的阻垢性能 | 第50-55页 |
| 3．2．1 含膦酸基聚天冬氨酸与PBTCA的复配性能 | 第51-52页 |
| 3．2．2 含膦酸基聚天冬氨酸与HPA的复配性能 | 第52-53页 |
| 3．2．3 多种药剂复配后的阻垢性能 | 第53-55页 |
| 3．3 含膦酸基聚天冬氨酸的缓蚀性能 | 第55-56页 |
| 3．4 小结 | 第56-58页 |
| 4 结论 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第65页 |
