| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 引言 | 第10-20页 |
| 1．1 金属纳米材料表面在线包覆的研究背景及意义 | 第10-11页 |
| 1．2 包覆纳米材料在国内外的研究情况 | 第11-20页 |
| 1．2．1 国内研究情况 | 第11-14页 |
| 1．2．2 国外研究情况 | 第14-20页 |
| 第二章 金属纳米材料的制备 | 第20-38页 |
| 2．1 纳米材料的制备 | 第20-34页 |
| 2．1．1 自悬浮定向流法的制备原理 | 第20-21页 |
| 2．1．2 自悬浮定向流技术的理论计算 | 第21-32页 |
| 2．1．2．1 理论分析 | 第21-25页 |
| 2．1．2．2 数学处理 | 第25-28页 |
| 2．1．2．3 个例分析 | 第28-29页 |
| 2．1．2．4 举例计算 | 第29-32页 |
| 2．1．3 物理参数对颗粒度大小影响的理论模拟 | 第32-34页 |
| 2．2 金属铜纳米粉末的制备 | 第34-37页 |
| 2．2．1 实验参数 | 第34页 |
| 2．2．2 透射电镜分析纳米材料的形貌与颗粒度 | 第34-35页 |
| 2．2．3 XRD分析铜纳米粉末 | 第35-36页 |
| 2．2．4 金属铜纳米粉末的 UV-VIS谱 | 第36-37页 |
| 2．3 小结 | 第37-38页 |
| 第三章 空心阴极放电包理金属纳米粉末 | 第38-47页 |
| 3．1 空心阴极放电等离子体包覆纳米粉末 | 第38-41页 |
| 3．1．1 实验 | 第38-41页 |
| 3．1．1．1 空心阴极放电的基本原理 | 第38-39页 |
| 3．1．1．2 空心阴极放电的一般特性 | 第39-40页 |
| 3．1．1．3 包覆层 CH薄膜的生长机理 | 第40-41页 |
| 3．1．1．4 实验过程及参数 | 第41页 |
| 3．2 结果与讨论 | 第41-46页 |
| 3．2．1 包覆层 CH薄膜的沉积速率 | 第41-43页 |
| 3．2．1．1 衬底距离对沉积速率的影响 | 第42页 |
| 3．2．1．2 直流电压对沉积速率的影响 | 第42-43页 |
| 3．2．1．3 H_2流量对沉积速率的影响 | 第43页 |
| 3．2．2 包覆层 CH薄膜的表面形貌 | 第43-44页 |
| 3．2．3 CH包覆的纳米粉末的TEM分析 | 第44-45页 |
| 3．2．4 CH包覆的铜纳米粉末的红外吸收谱 | 第45-46页 |
| 3．3 小结 | 第46-47页 |
| 第四章 金属纳米材料的在线包覆 | 第47-60页 |
| 4．1 磁控溅射法碳包覆铜纳米颗粒 | 第47-52页 |
| 4．1．1 实验 | 第47-49页 |
| 4．1．1．1 磁控溅射的原理 | 第47-48页 |
| 4．1．1．2 实验步骤 | 第48页 |
| 4．1．1．3 实验参数 | 第48-49页 |
| 4．1．2 分析与讨论 | 第49-52页 |
| 4．1．2．1 碳包覆的铜纳米颗粒的 TEM形貌 | 第49-50页 |
| 4．1．2．2 碳包覆的铜纳米颗粒的 XPS分析 | 第50-52页 |
| 4．1．3 小结 | 第52页 |
| 4．2 热蒸发法在线有机包覆金属纳米颗粒 | 第52-56页 |
| 4．2．1 实验 | 第52-53页 |
| 4．2．1．1 真空热蒸发的基本原理 | 第52页 |
| 4．2．1．2 实验过程 | 第52-53页 |
| 4．2．1．3 实验条件 | 第53页 |
| 4．2．2 结果与讨论 | 第53-56页 |
| 4．2．2．1 有机物包覆的铜纳米颗粒的 TEM形貌 | 第53-54页 |
| 4．2．2．2 有机物包覆的铜纳米颗粒的 IR吸收谱 | 第54-55页 |
| 4．2．2．3 有机物包覆的铜纳米颗粒的 XPS分析 | 第55-56页 |
| 4．2．2．4 有机物包覆的铜纳米颗粒的 XRD分析 | 第56页 |
| 4．2．3 小结 | 第56页 |
| 4．3 自悬浮定向流装置上的在线包覆实验 | 第56-59页 |
| 4．3．1 在线包覆原理 | 第56-58页 |
| 4．3．2 实验参数 | 第58-59页 |
| 4．3．3 扫描电子显微镜(SEM)分析纳米粉末的分散性 | 第59页 |
| 4．4 小结 | 第59-60页 |
| 第五章 结论 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-66页 |
| 附录 | 第66页 |
