多层膜摩擦学特性的测试与模拟
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第1章 绪论 | 第7-17页 |
| ·多层膜 | 第7-10页 |
| ·多层膜的概念 | 第7页 |
| ·多层膜特性 | 第7-9页 |
| ·覆层膜的制备方法 | 第9-10页 |
| ·研究膜层材料接触问题的主要方法 | 第10-14页 |
| ·运用解析解方法 | 第10-11页 |
| ·运用滑线场理论法 | 第11-12页 |
| ·运用有限元法 | 第12-14页 |
| ·多层膜的研究现状 | 第14页 |
| ·本文研究的主要内容 | 第14-17页 |
| 第2章 覆层体弹性接触理论 | 第17-28页 |
| ·多层膜受法向椭圆分布力作用下的接触应力 | 第18-21页 |
| ·覆层体受不同形状压头法向力作用时的接触应力 | 第21-25页 |
| ·受球状压头作用时的接触应力 | 第22-24页 |
| ·受圆柱状压头作用时的接触应力 | 第24-25页 |
| ·受法、切向合力作用式覆层体的接触应力 | 第25-27页 |
| ·受球状压头滑动作用 | 第25-26页 |
| ·受圆柱体压头的滑动作用 | 第26-27页 |
| ·本章小结 | 第27-28页 |
| 第3章 有限元分析程序 | 第28-45页 |
| ·有限元法理论基础概述 | 第28-29页 |
| ·虚位移原理 | 第28-29页 |
| ·最小位能原理 | 第29页 |
| ·最小余能原理 | 第29页 |
| ·弹性有限元分析过程概述 | 第29-32页 |
| ·二维弹性问题的有限元程序结构 | 第32-42页 |
| ·面对对象的程序设计方法及C++语言简介 | 第33-35页 |
| ·编程思路 | 第35页 |
| ·程序的前处理和后处理 | 第35-37页 |
| ·有限元分析本体程序 | 第37-41页 |
| ·程序编制过程中的一些难点及解决方法 | 第41-42页 |
| ·程序的校验 | 第42-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第4章 影响多层膜应力分布的主要因素 | 第45-75页 |
| ·理想的多层膜模型 | 第45-46页 |
| ·有限元模型介绍 | 第46-48页 |
| ·膜层厚度对各应力的影响 | 第48-56页 |
| ·对表面应力的影响 | 第49-53页 |
| ·对界面应力的影响 | 第53-55页 |
| ·本节小结 | 第55-56页 |
| ·膜层层数对各应力的影响 | 第56-62页 |
| ·对表面应力的影响 | 第56-59页 |
| ·对界面应力的影响 | 第59-61页 |
| ·本节小结 | 第61-62页 |
| ·膜层弹性模量对各应力的影响 | 第62-66页 |
| ·对表面应力的影响 | 第62-64页 |
| ·对界面应力的影响 | 第64-66页 |
| ·本节小结 | 第66页 |
| ·摩擦系数对各应力分布的影响 | 第66-71页 |
| ·对表面应力的影响 | 第67-69页 |
| ·对界面应力的影响 | 第69-71页 |
| ·本节小结 | 第71页 |
| ·Cu／Ni覆层膜的应力分析 | 第71-73页 |
| ·本章小结 | 第73-75页 |
| 第五章 多层膜的表面形貌及微摩擦磨损性能分析 | 第75-85页 |
| ·多层膜样品的制备 | 第75-77页 |
| ·磁控溅射现象及原理 | 第75-76页 |
| ·离子束增强沉积设备结构及沉积工艺流程 | 第76-77页 |
| ·多层膜样品的测试及原理 | 第77-83页 |
| ·原子力显微镜工作原理 | 第77-79页 |
| ·试验方法 | 第79-81页 |
| ·分析讨论 | 第81-83页 |
| ·本章小结 | 第83-85页 |
| 第六章 结论 | 第85-87页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第87-88页 |
| 致谢 | 第88-89页 |
| 参考文献 | 第89-94页 |
| 附录 | 第94页 |
