多孔硅的表面活性剂修饰及多孔硅光谱温度效应的研究
| 第一章 绪论 | 第1-24页 |
| §1．1多孔硅的研究历史 | 第9-10页 |
| §1．2多孔硅的制备方法 | 第10-11页 |
| 1．2．1 阳极氧化法 | 第10页 |
| 1．2．2 化学腐蚀法 | 第10-11页 |
| 1．2．3 火花放电腐蚀法 | 第11页 |
| 1．2．4 高分辨光刻或电子刻蚀技术 | 第11页 |
| §1．3多孔硅的微观结构和形成机理 | 第11-14页 |
| 1．3．1 多孔硅的微观结构 | 第11-13页 |
| 1．3．2 多孔硅的形成机理 | 第13-14页 |
| §1．4多孔硅的研究方法 | 第14-15页 |
| 1．4．1 电子显微镜法 | 第14页 |
| 1．4．2 X射线衍射法 | 第14页 |
| 1．4．3 荧光分析法 | 第14页 |
| 1．4．4 拉曼光谱法 | 第14-15页 |
| §1．5多孔硅的发光机制 | 第15-18页 |
| 1．5．1 量子限制效应模型 | 第15页 |
| 1．5．2 硅-氢键或多硅烷发光模型 | 第15页 |
| 1．5．3 Si6O3H6发光模型 | 第15-16页 |
| 1．5．4 表面态模型 | 第16-17页 |
| 1．5．5 量子限制-发光中心模型 | 第17页 |
| 1．5．6 小结 | 第17-18页 |
| §1．6多孔硅的应用与展望 | 第18-20页 |
| 1．6．1 多孔硅的光致发光和电致发光器件 | 第18-20页 |
| 1．6．2 多孔硅的其它应用 | 第20页 |
| 1．6．3 多孔硅的应用展望 | 第20页 |
| §1．7本论文的主要工作 | 第20-21页 |
| 参考文献 | 第21-24页 |
| 第二章 表面活性剂修饰多孔硅荧光光谱 | 第24-38页 |
| §2．1发光的基本概念和硅的能带结构 | 第24-27页 |
| 2．1．1 发光的基本概念 | 第24-25页 |
| 2．1．2 硅的能带结构 | 第25-27页 |
| §2．2多孔硅制备条件对发光性能的影响 | 第27-29页 |
| 2．2．1 样品制备与荧光测量 | 第27-28页 |
| 2．2．2 实验结果 | 第28页 |
| 2．2．3 讨论和分析 | 第28-29页 |
| §2．3表面活性剂修饰多孔硅的荧光光谱 | 第29-33页 |
| 2．3．1 表面活性剂简介 | 第29-31页 |
| 2．3．2 样品和实验 | 第31-32页 |
| 2．3．3 分析和讨论 | 第32-33页 |
| §2．4不同浓度表面活性剂修饰多孔硅的荧光光谱 | 第33-35页 |
| 2．4．1 样品和实验 | 第33-34页 |
| 2．4．2 分析 | 第34-35页 |
| §2．5本章总结 | 第35-36页 |
| 参考文献 | 第36-38页 |
| 第三章 多孔硅荧光光谱温度效应研究 | 第38-50页 |
| §3．1多孔硅样品的荧光光谱和低温效应研究 | 第38-43页 |
| 3．1．1 样品与实验 | 第38-39页 |
| 3．1．2 实验结果 | 第39-42页 |
| 3．1．3 分析和讨论 | 第42-43页 |
| §3．2多孔硅样品的荧光光谱及其高温效应 | 第43-47页 |
| 3．2．1 样品制备与实验测量 | 第43-46页 |
| 3．2．2 分析和讨论 | 第46-47页 |
| §3．3本章总结 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-50页 |
| 第四章 多孔硅的拉曼光谱研究 | 第50-60页 |
| §4．1拉曼光谱概述 | 第50-53页 |
| 4．1．1 拉曼散射的基本原理 | 第50-51页 |
| 4．1．2 拉曼散射的类型 | 第51-52页 |
| 4．1．3 拉曼散射光谱的应用和优点 | 第52-53页 |
| §4．2多孔硅的拉曼光谱 | 第53-57页 |
| 4．2．1 实验 | 第53页 |
| 4．2．2 分析 | 第53-57页 |
| §4．3本章总结 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-60页 |
| 硕士期间完成的论文 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61页 |
