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两步生长模式合成一维GaN纳米结构和GaN晶体膜的研究

摘要第1-6页
Abstract第6-9页
第一章 绪论第9-21页
   ·GaN的特性第9-12页
   ·GaN薄膜研究进展第12-17页
   ·一维GaN纳米材料研究进展第17-19页
   ·选题依据第19-21页
第二章 实验设备第21-27页
   ·两步生长模式所使用的设备系统第21-25页
   ·实验中所需要的主要材料和试剂第25-26页
   ·样品的测试和表征第26-27页
第三章 两步生长模式合成一维GaN纳米材料第27-46页
   ·氮化溅射Ga_2O_3薄膜合成一维GaN纳米线第27-31页
   ·鱼骨形GaN纳米线的合成第31-35页
   ·氮化电泳Ga_2O_3薄膜合成一维GaN纳米线第35-39页
   ·一维GaN纳米结构生长的生长规律第39-43页
   ·两步模式合成一维GaN纳米结构的生长机制初探第43-46页
第四章 两步生长模式制备GaN晶体膜第46-56页
   ·在扩Ga的Si衬底上生长高质量的GaN晶体膜第46-48页
   ·GaN晶体膜的特性分析第48-54页
   ·影响GaN薄膜生长的因素第54-56页
第五章 结论第56-59页
   ·本论文的主要研究结果第56-57页
   ·对今后研究工作的建议第57-59页
参考文献第59-65页
致谢第65-66页
附录1: 作者在攻读硕士学位期间发表的论文目录第66-68页
附录2: 部分已发表或要发表的论文复印件第68-89页

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