| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-26页 |
| ·概述 | 第12-15页 |
| ·YBCO薄膜生长 | 第15-24页 |
| ·YBCO结构特点 | 第15-16页 |
| ·YBCO薄膜沉积工艺 | 第16-19页 |
| ·基片和过渡层的选择 | 第19-21页 |
| ·YBCO薄膜的外延取向 | 第21-22页 |
| ·大面积YBCO单／双面薄膜的研究进展 | 第22-24页 |
| ·论文选题及研究方案 | 第24-26页 |
| 第二章 实验方法与原理 | 第26-37页 |
| ·溅射原理 | 第26-27页 |
| ·设备简介 | 第27-28页 |
| ·YBCO薄膜的分析表征方法 | 第28-37页 |
| ·厚度检测 | 第28-29页 |
| ·成份分析 | 第29-31页 |
| ·结构分析 | 第31-33页 |
| ·形貌分析 | 第33-34页 |
| ·电性能分析 | 第34-37页 |
| 第三章 YBCO双面薄膜生长工艺研究 | 第37-57页 |
| ·引言 | 第37页 |
| ·基片转动方式 | 第37-39页 |
| ·双轴旋转 | 第39-40页 |
| ·加热方式 | 第40-43页 |
| ·基片质量 | 第43-45页 |
| ·生长温度 | 第45-50页 |
| ·自外延生长 | 第50-51页 |
| ·沉积速率 | 第51-52页 |
| ·生长气压 | 第52-53页 |
| ·氧氬比 | 第53-54页 |
| ·靶基距 | 第54-55页 |
| ·薄膜后处理工艺 | 第55页 |
| ·小结 | 第55-57页 |
| 第四章 YBCO薄膜生长机理研究 | 第57-77页 |
| ·引言 | 第57页 |
| ·YBCO薄膜生长过程分析 | 第57-59页 |
| ·温度对薄膜生长的影响 | 第59-64页 |
| ·薄膜形貌随厚度的演化 | 第64-67页 |
| ·沉积速率的影响 | 第67-71页 |
| ·基片对薄膜生长的影响 | 第71-76页 |
| ·小结 | 第76-77页 |
| 第五章 YBCO薄膜厚度分布模拟 | 第77-107页 |
| ·引言 | 第77页 |
| ·溅射过程分析 | 第77-79页 |
| ·粒子的发射 | 第77-78页 |
| ·粒子的传递 | 第78-79页 |
| ·粒子的沉积 | 第79页 |
·倒筒靶溅射薄膜的厚度模拟Ⅰ:R_(sub)| 第79-91页 | |
| ·模型建立 | 第79-82页 |
| ·厚度分布 | 第82-91页 |
| ·静止的基片 | 第82-84页 |
| ·基片面内旋转 | 第84-87页 |
| ·基片面外旋转 | 第87-90页 |
| ·基片双轴旋转 | 第90-91页 |
| ·倒筒靶溅射薄膜的厚度模拟Ⅱ:R_(sub)>r_(target) | 第91-99页 |
| ·模型建立 | 第91-95页 |
| ·定向传递 | 第92-93页 |
| ·扩散传递 | 第93-95页 |
| ·厚度分布 | 第95-99页 |
| ·静止的基片 | 第95页 |
| ·基片面内旋转 | 第95-98页 |
| ·基片双轴旋转 | 第98-99页 |
| ·双轴旋转调速机制 | 第99-101页 |
| ·双轴旋转用于其它PVD沉积薄膜 | 第101-106页 |
| ·点源 | 第102-103页 |
| ·线源 | 第103-104页 |
| ·平面源 | 第104页 |
| ·锥面源 | 第104-106页 |
| ·小结 | 第106-107页 |
| 第六章 YBCO薄膜均匀性研究 | 第107-132页 |
| ·双面一致性 | 第107-112页 |
| ·面内结构均匀性 | 第112-122页 |
| ·厚度均匀性 | 第112-116页 |
| ·成份均匀性 | 第116-119页 |
| ·结构均匀性 | 第119-121页 |
| ·表面形貌 | 第121-122页 |
| ·电性能均匀性 | 第122-129页 |
| ·T_c均匀性 | 第122页 |
| ·J_c均匀性 | 第122-125页 |
| ·R_s均匀性 | 第125-129页 |
| ·YBCO双面薄膜在微波器件中的应用 | 第129-131页 |
| ·小结 | 第131-132页 |
| 主要结论与创新点 | 第132-135页 |
| 参考文献 | 第135-150页 |
| 致谢 | 第150-151页 |
| 个人简历、在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第151-153页 |