摘要 | 第1-12页 |
第一章 文献综述 | 第12-31页 |
第一节 铜及其合金的研究现状 | 第12-19页 |
1 导电用铜合金的研究 | 第12-16页 |
2 耐热铜合金的研究 | 第16-17页 |
3 耐磨,耐蚀铜合金的研究 | 第17页 |
4 铜基复合材料的研究 | 第17-19页 |
第二节 铜及其合金表面强化的研究动态 | 第19-21页 |
1 表面涂镀技术 | 第19-20页 |
2 表面合金化 | 第20-21页 |
第三节 离子渗金属技术现状 | 第21-31页 |
1 双层辉光离子渗金属技术 | 第23-28页 |
·双层辉光离子渗金属基本原理及其放电特性 | 第23-24页 |
·双层辉光离子渗金属技术工艺特性的研究 | 第24-26页 |
·双层辉光离子渗金属技术渗入机理的研究 | 第26-27页 |
·双层辉光离子渗金属技术的应用研究 | 第27-28页 |
2 加弧辉光离子渗金属技术 | 第28-31页 |
第二章 课题的提出与研究目标 | 第31-37页 |
第一节 课题的提出 | 第31-36页 |
1 课题提出依据 | 第31-32页 |
2 渗入元素的确定 | 第32-36页 |
第二节 课题的研究目标 | 第36-37页 |
第三章 试验材料、设备及方法 | 第37-39页 |
第一节 试验材料 | 第37-38页 |
第二节 实验设备及方法 | 第38-39页 |
第四章 纯铜双辉离子渗钛的工艺研究 | 第39-65页 |
第一节 工艺方案的总体设计 | 第39-40页 |
第二节 工艺参数的初步选择 | 第40-42页 |
1 源极电压 | 第40页 |
2 工件电压 | 第40-41页 |
3 极间距 | 第41页 |
4 气压 | 第41-42页 |
5 温度的选择 | 第42页 |
第三节 双辉离子渗钛设备操作规范 | 第42-45页 |
第四节 几种不同工艺参数的实验结果 | 第45-47页 |
第五节 渗层的成分分布及组织特征 | 第47-54页 |
1 渗层的金相组织 | 第47-49页 |
2 渗层合金元素的分布 | 第49-52页 |
3 渗层显微硬度的测定 | 第52-53页 |
4 渗层相结构分析 | 第53-54页 |
5 渗层的表面形貌 | 第54页 |
第六节 各种工艺参数对渗层的影响 | 第54-59页 |
1 源极电压的影响 | 第55页 |
2 工件电压的影响 | 第55-56页 |
3 气压的影响 | 第56-57页 |
4 温度的影响 | 第57-58页 |
5 双辉炉中本底真空度对离子渗钛的影响 | 第58-59页 |
第七节 对渗入机理的探讨 | 第59-65页 |
1 源极溅射 | 第59-62页 |
2 工件表面吸附 | 第62-63页 |
3 工件表面离子轰击效应 | 第63页 |
4 热扩散 | 第63-65页 |
第五章 纯铜渗铝工艺的研究 | 第65-73页 |
第一节 工艺方案的设计 | 第65-68页 |
1 工艺流程 | 第65页 |
2 渗剂配比 | 第65页 |
3 实验 | 第65-68页 |
第二节 渗层成分分布及组织特征 | 第68-71页 |
1 渗层的金相组织 | 第68-69页 |
2 渗层合金元素的分布 | 第69-70页 |
3 渗层显微硬度 | 第70-71页 |
第三节 渗入机理 | 第71-73页 |
第六章 纯铜渗钛腐蚀性能的研究 | 第73-91页 |
第一节 电化学腐蚀基本原理 | 第73-75页 |
第二节 实验方法 | 第75-76页 |
第三节 实验结果 | 第76-88页 |
1 纯铜离子渗钛层在0.5mol/L和1mol/LH_2SO_4中的腐蚀结果 | 第76-80页 |
2 纯铜离子渗钛层在1mol/l盐酸中的腐蚀性能 | 第80-83页 |
3 纯铜离子渗钛层在10%硝酸中的腐蚀性能 | 第83-86页 |
4 纯铜离子渗钛层在5%氯化钠中的腐蚀性能 | 第86-88页 |
第四节 分析讨论 | 第88-91页 |
第七章 纯铜离子渗钛,粉末渗铝高温氧化性能的研究 | 第91-99页 |
第一节 实验方法 | 第91-92页 |
第二节 氧化动力学曲线 | 第92-94页 |
第三节 氧化机理探讨 | 第94-99页 |
第八章 铜表面离子渗钛摩擦磨损性能的研究 | 第99-112页 |
第一节 实验方法及原理 | 第99-100页 |
第二节 实验结果 | 第100-106页 |
第三节 磨损机理分析 | 第106-112页 |
第九章 结论 | 第112-114页 |
硕士期间发表的文章 | 第114-115页 |
致谢 | 第115-116页 |
参考文献 | 第116-123页 |