| 中文摘要 | 第1-7页 |
| 英文摘要 | 第7-11页 |
| 目录 | 第11-14页 |
| 第一章 低温等离子体在薄膜制备中的应用 | 第14-19页 |
| ·等离子体概述 | 第14-15页 |
| ·等离子体的定义及其基本特点 | 第14页 |
| ·等离子体的分类 | 第14-15页 |
| ·低温等离子体沉积溅射技术及其应用 | 第15-19页 |
| ·低温等离子体沉积技术及其应用 | 第15-16页 |
| ·溅射沉积镀膜技术及其应用 | 第16-19页 |
| 第二章 阴极弧放电与辉光放电概述 | 第19-29页 |
| 引言 | 第19页 |
| ·阴极弧放电及其形态 | 第19-21页 |
| ·电弧历史发展 | 第19页 |
| ·弧斑的描述和阴极弧斑放电的基本特征 | 第19-21页 |
| ·弧斑放电的机理分析 | 第21-23页 |
| ·电子的热场致发射理论模型 | 第21-22页 |
| ·电子爆裂发射模型 | 第22-23页 |
| ·真空电弧沉积技术中的弧源设计 | 第23-25页 |
| ·弧源设计思想 | 第23-24页 |
| ·点火方式 | 第24页 |
| ·电弧斑点的控制 | 第24-25页 |
| ·宏观粒子的抑制方法 | 第25页 |
| ·辉光放电 | 第25-26页 |
| ·磁过滤系统 | 第26-29页 |
| ·直线型结构 | 第26-27页 |
| ·曲线型结构 | 第27-28页 |
| ·90°弯曲型磁过滤器 | 第28-29页 |
| 第三章 阴极弧光放电电源装置的研究与设计 | 第29-59页 |
| 引言 | 第29页 |
| ·阴极放电阶段的研究 | 第29页 |
| ·直流放电等离子体的通用伏安特性 | 第29-30页 |
| ·阴极弧放电整体设计方案研究 | 第30-35页 |
| ·起辉电路设计 | 第30-31页 |
| ·灭弧电路设计 | 第31-33页 |
| ·实验中的问题与改进 | 第33-35页 |
| ·高压脉冲大电流电源的整体设计方案与实验室设备搭建 | 第35-53页 |
| ·电源电路原理框图 | 第35-36页 |
| ·脉冲形成网络(PFNs) | 第36-42页 |
| ·高压脉冲大电流电源 | 第42-47页 |
| ·手动触发发生器的设计 | 第47-51页 |
| ·用单片机控制的可调连续触发脉冲 | 第51-53页 |
| ·脉冲放电实验 | 第53-57页 |
| ·电源装置在空气中放电测试 | 第53-55页 |
| ·电源装置在真空中放电测试 | 第55-57页 |
| ·真空镀膜实验 | 第57页 |
| 小结 | 第57-59页 |
| 第四章 放电系统与磁过滤弯管装置 | 第59-68页 |
| ·放电系统的构造 | 第59-60页 |
| ·磁过滤弯管装置 | 第60-61页 |
| ·透明石英玻璃筒电极装置 | 第61-62页 |
| ·真空制膜系统 | 第62-67页 |
| ·真空室装置 | 第62-63页 |
| ·真空室加热及温度控制装置 | 第63-64页 |
| ·移动式探针外部操作系统 | 第64-65页 |
| ·真空系统弧源说明 | 第65-67页 |
| 小结 | 第67-68页 |
| 第五章 放电装置程序控制及数据采集程序 | 第68-75页 |
| ·单片机脉冲触发程序设计 | 第68-70页 |
| ·单片机基本说明 | 第68页 |
| ·单片机功能设计 | 第68-70页 |
| ·单片机与计算机传输 | 第70-73页 |
| 小结 | 第73-75页 |
| 第七章 总结 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-81页 |
| 硕士期间发表论文 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82页 |