GaN基LED的关键技术研究
摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-10页 |
第一章 绪论 | 第10-20页 |
·GaN 材料概述 | 第10-11页 |
·GaN 基LED 的发展以及应用前景 | 第11-16页 |
·以蓝宝石为衬底的GaN 基LED | 第11-13页 |
·以Si 为衬底的GaN 基LED 的发展 | 第13-16页 |
·本文的主要工作与安排 | 第16-20页 |
第二章 H 原子对GAN 材料的作用 | 第20-34页 |
·MOCVD 技术概述 | 第20-25页 |
·MOCVD 系统特点 | 第20-23页 |
·新型MOCVD 系统 | 第23-24页 |
·西电MOCVD 系统的反应室设计 | 第24-25页 |
·H 与GaN 中掺杂剂的基本作用原理 | 第25-29页 |
·退火对GaN 材料的影响 | 第29-32页 |
·本章小结 | 第32-34页 |
第三章 GAN 基LED 的制备以及工艺流程 | 第34-48页 |
·材料的生长和器件的制备 | 第34-36页 |
·材料的生长 | 第34-35页 |
·GaN 基LED 的工艺流程 | 第35-36页 |
·n-GaN 欧姆接触 | 第36-37页 |
·p-GaN 欧姆接触 | 第37-46页 |
·退火后p 型电极结构模型 | 第37-38页 |
·空气中退火后Ni/Au 电极的微结构分析 | 第38-40页 |
·对氧化的Ni/Au 薄膜结构的能带结构分析 | 第40-44页 |
·在氮气中退火情况的讨论 | 第44-46页 |
·本章小节 | 第46-48页 |
第四章 GAN 基LED 特性研究 | 第48-66页 |
·GaN 基LED 的电学特性研究 | 第48-53页 |
·GaN 基 LED 基本电学特性研究 | 第48-50页 |
·GaN 基 LED 的可靠性研究 | 第50-53页 |
·p 型欧姆接触表面分析 | 第53-59页 |
·电子束与固体样品相互作用时产生的物理信号 | 第53-55页 |
·衬底原理及其应用 | 第55-58页 |
·电应力对 p 型 Ni/Au 表面形貌的影响 | 第58-59页 |
·GaN 基 LED 光学特性的研究 | 第59-65页 |
·GaN 基 LED 的发光结构机制分析 | 第59-61页 |
·GaN 基 LED 的 EL 光谱研究 | 第61-65页 |
·本章小节 | 第65-66页 |
第五章 结论 | 第66-70页 |
·本文的主要贡献 | 第66-68页 |
·后续工作展望 | 第68-70页 |
致谢 | 第70-72页 |
参考文献 | 第72-77页 |
攻读硕士期间的研究成果和参加的科研项目 | 第77-78页 |