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氧化锌薄膜的微结构调整及光、电、磁性质研究

摘要第1-7页
Abstract第7-12页
第1章 绪论第12-29页
   ·研究目的和意义第12-14页
     ·产业背景第12页
     ·ZnO研究的兴起第12-13页
     ·ZnO的特性及应用第13-14页
   ·ZnO的基本性质第14-23页
     ·ZnO的基本物理性质第14-16页
     ·ZnO的晶格结构第16-18页
     ·ZnO的能带结构第18-20页
     ·ZnO的激子发光第20-22页
     ·ZnO的缺陷发光第22-23页
   ·ZnO主要研究热点第23-27页
     ·p型ZnO的研究第23-25页
     ·ZnO基稀磁半导体的研究第25-26页
     ·纳米ZnO的研究第26-27页
   ·本论文的主要研究内容第27-29页
第2章 ZnO薄膜的制备系统与光学测量第29-37页
   ·ZnO薄膜的制备系统第29-31页
     ·螺旋波等离子体辅助射频磁控溅射系统第29-30页
     ·脉冲激光沉积系统第30-31页
   ·ZnO薄膜的磁光光谱测量第31-35页
     ·法拉第效应检测ZnO薄膜的导电类型第31-34页
     ·ZnO稀磁半导体薄膜的磁光透射谱第34-35页
   ·ZnO薄膜的其他表征方法第35-37页
第3章 自然掺杂p型ZnO薄膜的外延第37-54页
   ·蓝宝石衬底的氮化温度对ZnO薄膜的影响第37-47页
     ·蓝宝石衬底氮化条件的选取第37-38页
     ·实验过程第38-39页
     ·结构分析第39-43页
     ·光学特性第43-46页
     ·电学特性第46页
     ·小结第46-47页
   ·蓝宝石衬底上的自然掺杂p型ZnO薄膜第47-52页
     ·制备条件第47页
     ·电学特性第47-49页
     ·结构分析第49-51页
     ·光学特性第51-52页
   ·本章小结第52-54页
第4章 Al-N共掺p型ZnO薄膜制备及形成机理第54-73页
   ·引言第54-56页
     ·共掺理论第54-55页
     ·选择Al-N共掺第55页
     ·选择氮源第55-56页
   ·Al-N共掺在Si衬底上实现p型ZnO薄膜第56-62页
     ·制备条件第56页
     ·晶格结构第56-57页
     ·表面形貌第57-58页
     ·电学特性第58-59页
     ·X射线光电子能谱第59-62页
     ·小结第62页
   ·不同N_2流量对n-Si上A1-N共掺ZnO薄膜的影响第62-72页
     ·实验条件第62-63页
     ·结构分析第63-64页
     ·电学性质第64-65页
     ·Raman光谱第65-69页
     ·室温光致发光谱第69-70页
     ·低温光致发光谱第70-72页
   ·本章小结第72-73页
第5章 Mn-N共掺ZnO薄膜制备及其磁学和光学特性研究第73-79页
   ·Mn-N共掺ZnO薄膜的制备第73页
   ·Mn-N共掺ZnO薄膜的特性分析第73-77页
     ·结构分析第73-74页
     ·磁性分析第74-75页
     ·Raman光谱分析第75-76页
     ·紫外-可见透射光谱分析第76-77页
   ·本章小结第77-79页
第6章 Mn掺杂ZnO薄膜制备及其磁学和电学特性研究第79-96页
   ·Mn掺杂ZnO薄膜的制备第79页
     ·靶材制备第79页
     ·实验条件第79页
   ·Mn掺杂ZnO薄膜的特性分析第79-86页
     ·结构分析第79-81页
     ·表面形貌第81-82页
     ·磁性表征第82-83页
     ·光学性质第83-86页
   ·Raman光谱第86-90页
   ·电学性质第90-92页
   ·室温光致发光谱第92-95页
   ·本章小结第95-96页
结束语第96-99页
参考文献第99-106页
致谢第106-107页
攻读学位期间取得的科研成果第107页

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