| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·铁电材料的研究历史及现状 | 第10-12页 |
| ·BST 类铁电材料 | 第12-13页 |
| ·氮化镓带来的挑战和机遇 | 第13-14页 |
| ·集成铁电/半导体一体化的缓冲层材料 | 第14-17页 |
| ·氧化钛材料结构特点 | 第16页 |
| ·氧化钛薄膜的研究现状 | 第16-17页 |
| ·氧化物薄膜的制备方法 | 第17-18页 |
| ·本论文的选题和研究内容 | 第18-19页 |
| 第二章 实验方法与原理 | 第19-32页 |
| ·薄膜制备方法 | 第19-22页 |
| ·脉冲激光沉积 | 第19-20页 |
| ·脉冲激光沉积技术的特点和优势 | 第20-21页 |
| ·激光分子束外延 | 第21-22页 |
| ·薄膜表面及微观结构的表征 | 第22-28页 |
| ·X 射线衍射 | 第22-24页 |
| ·反射高能电子衍射 | 第24-26页 |
| ·形貌分析 | 第26-27页 |
| ·断面分析 | 第27-28页 |
| ·薄膜的电学性能表征 | 第28-31页 |
| ·铁电薄膜的介电性能的测量 | 第28-30页 |
| ·铁电薄膜的绝缘性能的测量 | 第30页 |
| ·氧化物电极的导电性测量 | 第30-31页 |
| ·铁电薄膜的P-E 特性测量 | 第31页 |
| ·小结 | 第31-32页 |
| 第三章 脉冲激光沉积制备氧化钛薄膜 | 第32-41页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·氧化钛靶材的制备 | 第32-33页 |
| ·制备过程 | 第33-34页 |
| ·基片清洗 | 第33页 |
| ·薄膜制备 | 第33-34页 |
| ·氧化钛薄膜的制备 | 第34-38页 |
| ·沉积温度和氧分压对氧化钛薄膜的影响 | 第34-37页 |
| ·激光能量密度对氧化钛薄膜的影响 | 第37-38页 |
| ·择优条件下氧化钛薄膜微结构表征 | 第38-40页 |
| ·小结 | 第40-41页 |
| 第四章 六方蓝宝石衬底上诱导立方钙钛矿结构薄膜初探 | 第41-57页 |
| ·引言 | 第41页 |
| ·BST 靶材的制备 | 第41-42页 |
| ·蓝宝石衬底上氧化钛诱导立方钙钛矿结构BST 薄膜生长 | 第42-48页 |
| ·沉积温度对上层薄膜的影响 | 第42-45页 |
| ·纳米缓冲层厚度对上层薄膜的影响 | 第45-48页 |
| ·氧化钛诱导立方钙钛矿结构氧化物底电极 | 第48-51页 |
| ·BST/蓝宝石集成薄膜微结构与性能表征 | 第51-56页 |
| ·BST/SRO/TiO_2/Al_2O_3 集成薄膜微结构表征 | 第51-53页 |
| ·BST/SRO/TiO_2/Al_2O_3 集成薄膜电性能表征 | 第53-56页 |
| ·小结 | 第56-57页 |
| 第五章 氧化钛缓冲层诱导实现BST/氮化镓集成的研究 | 第57-68页 |
| ·引言 | 第57页 |
| ·氧化钛薄膜在氮化镓衬底上的生长 | 第57-60页 |
| ·氧化钛缓冲层诱导实现BST/氮化镓集成生长 | 第60-66页 |
| ·缓冲层诱导BST 薄膜的原位生长监测分析 | 第60-61页 |
| ·缓冲层诱导BST 薄膜的微结构表征 | 第61-64页 |
| ·缓冲层诱导BST 薄膜的电学性能表征 | 第64-66页 |
| ·小结 | 第66-68页 |
| 第六章 主要结论及创新点 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-74页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第74-75页 |
