基于双模一体化液晶微透镜阵列的光控阵研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 课题背景及意义 | 第9-13页 |
| 1.2 电控液晶微透镜的研究进展 | 第13-17页 |
| 1.3 课题来源及论文主要工作 | 第17-18页 |
| 2 电控液晶的物理性质和理论基础 | 第18-31页 |
| 2.1 液晶材料的溯源和类别 | 第18-20页 |
| 2.2 液晶的应用物性 | 第20-24页 |
| 2.2.1 液晶的双折射 | 第21-22页 |
| 2.2.2 液晶的沾滞系数与弹性常数 | 第22-23页 |
| 2.2.3 液晶的介电各向异性与磁各向异性 | 第23-24页 |
| 2.3 液晶的连续体理论 | 第24-26页 |
| 2.4 液晶指向矢的数学模型 | 第26-29页 |
| 2.5 小结 | 第29-31页 |
| 3 电控液晶微透镜的结构设计与典型应用 | 第31-54页 |
| 3.1 仿真流程概述 | 第31-34页 |
| 3.2 图案化电极的结构参数匹配 | 第34-42页 |
| 3.3 输出光场点扩散函数的仿真与特性分析 | 第42-47页 |
| 3.4 较强光束的阵列化光纤互联通断应用 | 第47-50页 |
| 3.5 混沌信号的光学加解密应用 | 第50-52页 |
| 3.6 小结 | 第52-54页 |
| 4 双模一体化液晶微透镜的制作工艺 | 第54-64页 |
| 4.1 掩膜版图案的设计 | 第54-56页 |
| 4.2 双模一体化液晶微透镜阵列的加工制作 | 第56-63页 |
| 4.2.1 玻璃器皿和基片的清洗、干燥 | 第56-57页 |
| 4.2.2 旋涂光刻胶和基片的前烘 | 第57-58页 |
| 4.2.3 紫外光刻 | 第58-59页 |
| 4.2.4 显影 | 第59-60页 |
| 4.2.5 旋涂定向层与摩擦定向 | 第60-61页 |
| 4.2.6 灌注液晶与器件封口 | 第61-63页 |
| 4.3 小结 | 第63-64页 |
| 5 基于双模一体化液晶微透镜阵列的成像光控阵 | 第64-84页 |
| 5.1 光控阵汇聚发散的原理及特性 | 第64-67页 |
| 5.2 光学测试平台构建 | 第67-68页 |
| 5.3 光控阵对入射光束汇聚发散的能力 | 第68-73页 |
| 5.4 光控阵光学调焦的能力 | 第73-81页 |
| 5.5 光控阵抗强光干扰的能力 | 第81-83页 |
| 5.6 小结 | 第83-84页 |
| 6 总结与展望 | 第84-86页 |
| 6.1 全文总结 | 第84-85页 |
| 6.2 设计展望 | 第85-86页 |
| 致谢 | 第86-87页 |
| 参考文献 | 第87-93页 |
| 附录一 硕士期间的成果 | 第93页 |
