| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-20页 |
| ·薄膜技术的发展与现状 | 第10-13页 |
| ·薄膜技术的发展历程 | 第10页 |
| ·薄膜的形成过程 | 第10-12页 |
| ·薄膜的制备技术 | 第12-13页 |
| ·纳米多层结构薄膜及其性能 | 第13-18页 |
| ·纳米多层结构薄膜的构成 | 第14-15页 |
| ·纳米多层周期结构薄膜的性能特点 | 第15-18页 |
| ·本文研究意义及主要研究内容 | 第18-20页 |
| ·研究意义 | 第18-19页 |
| ·研究内容 | 第19-20页 |
| 第2章 单层TiN薄膜的制备及性能研究 | 第20-56页 |
| ·磁控溅射法制备单层TiN薄膜 | 第21-24页 |
| ·磁控溅射镀膜系统 | 第22-23页 |
| ·薄膜样品制备过程 | 第23-24页 |
| ·薄膜表征及性能测试 | 第24-28页 |
| ·薄膜晶体结构表征 | 第24-25页 |
| ·表面形貌分析 | 第25-26页 |
| ·薄膜厚度测试 | 第26-27页 |
| ·薄膜方块电阻和电阻率的测试 | 第27-28页 |
| ·薄膜光学反射率的测试 | 第28页 |
| ·Si衬底对TiN薄膜表面形貌、结构的影响 | 第28-30页 |
| ·TiN薄膜制备工艺参数的正交实验 | 第30-35页 |
| ·正交实验设计 | 第30-31页 |
| ·工艺参数对薄膜导电性能影响的模糊分析 | 第31-35页 |
| ·工艺参数对TiN薄膜结构与性能的影响 | 第35-50页 |
| ·溅射电流 | 第35-40页 |
| ·衬底温度 | 第40-47页 |
| ·腔体气压 | 第47-50页 |
| ·薄膜粒子溅射微观过程分析 | 第50-54页 |
| ·本章小结 | 第54-56页 |
| 第3章 Ti/TiN多层周期结构薄膜的制备与表征 | 第56-68页 |
| ·Ti/TiN多层周期结构薄膜的制备 | 第56-57页 |
| ·Ti/TiN周期薄膜的XRD表征 | 第57-61页 |
| ·XRD测试 | 第57-58页 |
| ·薄膜内应力分析 | 第58-61页 |
| ·薄膜厚度的测量与标定 | 第61-62页 |
| ·Ti层厚度定标 | 第61-62页 |
| ·TiN层厚度定标 | 第62页 |
| ·薄膜表面形貌的表征 | 第62-64页 |
| ·薄膜光电子能谱分析 | 第64-67页 |
| ·X射线光电子能谱仪 | 第64-65页 |
| ·表面化学状态分析 | 第65-66页 |
| ·深度分析 | 第66-67页 |
| ·本章小结 | 第67-68页 |
| 第4章 Ti/TiN多层周期结构薄膜的光学电学性能研究 | 第68-79页 |
| ·衬底温度的影响 | 第68-69页 |
| ·溅射电流的影响 | 第69-71页 |
| ·调制周期的影响 | 第71-73页 |
| ·周期数的影响 | 第73-75页 |
| ·Ti/TiN薄膜的电导机理研究 | 第75-78页 |
| ·本章小结 | 第78-79页 |
| 第5章 Ti/TiN多层周期结构薄膜耐腐蚀性能研究 | 第79-85页 |
| ·单层薄膜与周期薄膜耐腐蚀性能比较 | 第79-80页 |
| ·工艺参数对薄膜耐腐蚀性能的影响 | 第80-82页 |
| ·衬底温度 | 第80-81页 |
| ·溅射电流 | 第81-82页 |
| ·调制周期对薄膜耐腐蚀性能的影响 | 第82-83页 |
| ·讨论 | 第83-84页 |
| ·本章小结 | 第84-85页 |
| 第6章 结论与展望 | 第85-88页 |
| ·总结 | 第85-86页 |
| ·展望 | 第86-88页 |
| 致谢 | 第88-89页 |
| 参考文献 | 第89-95页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第95页 |